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J-GLOBAL ID:200903071949136906
クラスター成膜装置及び成膜方法、並びにクラスター生成装置及び生成方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
森 哲也
, 内藤 嘉昭
, 崔 秀▲てつ▼
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005358927
Publication number (International publication number):2007162059
Application date: Dec. 13, 2005
Publication date: Jun. 28, 2007
Summary:
【課題】レーザビームの強度を増大し、クラスター群の生成量の増大とクラスター群のクラスター生成容器からの取り出しを増大する。【解決手段】クラスター生成容器5内において、ターゲット1にレーザビーム2を照射し、発生する材料蒸気が不活性ガスの衝撃波4を発生せしめ、該衝撃波4がクラスター生成容器5の壁に反射して進行してきた材料蒸気を特定領域に閉じ込め、材料蒸気の原子あるいは分子同士の衝突によりクラスター群を生成して流出窓7から流出せしめ、基板9上に散布してクラスター膜10を成膜する装置において、該レーザビーム2のエネルギー強度の増大に応じて該ターゲット表面での該レーザビーム2の断面積を拡大せしめて、材料蒸気の発生蒸気量増大と該不活性ガスの衝撃波の効率的発生を両立せしめ、同時に該衝撃波の反射波が材料蒸気を閉じ込める条件を満たすようにクラスター生成容器を拡大化する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
クラスターの原料となるターゲット材料を所定の位置に配置して不活性ガスを導入しながらクラスター群を生成するクラスター生成容器と、該クラスター生成容器の外部から前記ターゲット材料にレーザビームを照射するレーザビーム光源と、該クラスター生成容器に連通されクラスター膜を所定の基板上に成膜するクラスター成膜容器とを備え、前記レーザビームに照射された該ターゲット材料の材料蒸気が不活性ガスの衝撃波を発生せしめ、該衝撃波が前記クラスター生成容器の内壁で反射して該材料蒸気を特定領域に閉じ込め、該材料蒸気の原子あるいは分子同士の衝突により該材料のクラスター群を生成し、該ターゲット材料と該特定領域とを結ぶ直線の延長線上の該クラスター生成容器の壁に設けた流出窓から該クラスター群を流出せしめ、該クラスター成膜容器内の該基板上に該クラスター群を堆積してクラスターを成膜するクラスター成膜装置において、
該レーザビームのエネルギー強度を300mJ以上に設定し、該エネルギーの密度を該ターゲット材料上で所定の範囲内になるように設定するエネルギー密度設定手段を備え、該ターゲット材料の照射面から該流出窓までの距離を該ターゲット材料面上でのビーム径の10倍以上に設定したことを特徴とするクラスター成膜装置。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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プラズマCVD成膜装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-072944
Applicant:日本エー・エス・エム株式会社
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半導体素子の製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-276080
Applicant:大同特殊鋼株式会社
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非揮発性SONSNOSメモリ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-345839
Applicant:三星電子株式会社
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結晶成長基板及び半導体発光素子の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-220564
Applicant:豊田合成株式会社
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クラスター生成方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-341406
Applicant:経済産業省産業技術総合研究所長, 日立造船株式会社
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Cited by examiner (5)
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クラスター銃
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-221979
Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所, 日立造船株式会社, 甲子園金属株式会社
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クラスター生成方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-341406
Applicant:経済産業省産業技術総合研究所長, 日立造船株式会社
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光電子材料の製造方法、並びにその光電子材料を用いた応用素子及び応用装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-157840
Applicant:松下電器産業株式会社
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クラスター生成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-206418
Applicant:動力炉・核燃料開発事業団
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熱電変換材料及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-267328
Applicant:日本航空電子工業株式会社
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