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J-GLOBAL ID：201403023522574924

ポジトロン断層撮影法および該方法に用いるポジトロン放出化合物

Inventor： 橋本 謙二 ,  豊原 潤
Applicant, Patent owner： 国立大学法人 千葉大学
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2008199850
Publication number (International publication number)：2010037232
Patent number：5544550
Application date： Aug. 01, 2008
Publication date： Feb. 18, 2010
Claim (excerpt)：

【請求項1】 以下の化学式で表される化合物(IIa)、その塩、又はそれらの水和物若しくは溶媒 和物。

IPC (2)：

C07D 487/04 ( 200 6.01) ,  A61K 51/00 ( 200 6.01)

FI (3)：

C07D 487/04 137 ,  C07D 487/04 CSP ,  A61K 49/02 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• ポジトロン断層撮影法および該方法に用いるポジトロン放出化合物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-041545   Applicant：株式会社ナード研究所, 国立大学法人千葉大学

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• CNS Neuroscience & Therapeutics, 2008, Vol.14, No.1, p.65-82
• British Journal of Pharmacology, 2008, Vol.153, p.1054-1061