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J-GLOBAL ID：201403054931689701
成膜装置及び成膜装置用噴射弁
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
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Agent (2)：
西村 竜平
, 佐藤 明子
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2007290672
Publication number (International publication number)：2009114521
Patent number：5430841
Application date： Nov. 08, 2007
Publication date： May. 28, 2009
Claim (excerpt)：
【請求項1】 基板を内部に収容する成膜室と、その基板から所定距離離間させて配置され、成膜原料を前記成膜室内に液体状態で噴射する噴射弁と、を備えてなり、
前記噴射弁に設けられた噴射孔の横断面形状が、短手方向にはほぼ一定寸法であるとともに、長手方向には入口から出口に近づくほど拡開し、出口近傍において少なくとも帯状をなすように構成され、
前記噴射孔の拡開角度が、180°以下であり、
前記噴射孔の短手方向の側面と、当該側面に連続する噴射弁の内面とのなす角度が、0°より大きく90°未満である噴霧式CVD成膜装置。
IPC (1)：
FI (1)：
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
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成膜装置及び成膜方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2005-333346
Applicant：学校法人同志社, 株式会社堀場製作所, 株式会社堀場エステック
Cited by examiner (1)
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成膜装置及び成膜方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2005-333346
Applicant：学校法人同志社, 株式会社堀場製作所, 株式会社堀場エステック
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (2)
Cited by examiner (2)
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