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J-GLOBAL ID：201403080576333721

集光径可変なX線集光システム

Inventor：
松山 智至

About 松山 智至

, 
山内 和人

About 山内 和人

, 
岡田 浩巳

About 岡田 浩巳


Applicant, Patent owner：
国立大学法人大阪大学

About 国立大学法人大阪大学


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012150245
Publication number (International publication number)：2014013169
Application date： Jul. 04, 2012
Publication date： Jan. 23, 2014
Summary：
【課題】 同一集光光学系を用いて回折限界下でX線の集光径を、走査型X線顕微鏡での使用に適した50nm以下からX線回折顕微鏡での使用に適したμmオーダーまでの広範囲に変更可能なX線集光システムを提供する。【解決手段】 第1楕円E1の一方の焦点を光源Aとし、他方の焦点を共通焦点Bとするとともに、第2楕円E2の一方の焦点を固定焦点Cとし、他方の焦点を共通焦点と一致させ、第1ミラーMUの形状を第1楕円の一部で形成し、第2ミラーMDの形状を第2楕円の一部で形成し、光源と固定焦点の位置を固定したまま、共通焦点の位置と第1ミラーと第2ミラーの形状を変化させて、固定焦点での集光径を変える。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
光源から射出されたX線を反射面の形状が可変な1次元の第1ミラーと第2ミラーで反射させて固定焦点に集光する斜入射X線光学系であり、第1楕円の一方の焦点を光源とし、他方の焦点を共通焦点とするとともに、第2楕円の一方の焦点を光学系全体の固定焦点とし、他方の焦点を前記共通焦点と一致させ、前記第1ミラーの反射面の形状を前記第1楕円の一部で形成し、前記第2ミラーの反射面の形状を前記第2楕円の一部で形成し、前記光源からのX線を前記第1ミラーの反射面で反射させて前記共通焦点を通過させた後、前記第2ミラーの反射面で反射させて固定焦点に集光する配置とし、前記光源と固定焦点の位置を固定したまま、前記共通焦点の位置を変更してそれに対応して前記第1ミラーと第2ミラーの反射面の形状を変化させることにより、前記固定焦点での集光径を変えることを特徴とする集光径可変なX線集光システム。
IPC (2)：
G21K 1/06 ,  G21K 1/00
FI (3)：
G21K1/06 K ,  G21K1/06 B ,  G21K1/00 X
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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