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J-GLOBAL ID:201403089787733464
放射性同位元素の製造方法及び装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
西澤 利夫
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2010008608
Publication number (International publication number):2010223944
Patent number:5522568
Application date: Jan. 18, 2010
Publication date: Oct. 07, 2010
Claim (excerpt):
【請求項1】重水素又は陽子よりなる荷電粒子ビームを加速するために電圧を印加する電源、前記電源からの電圧が印加され、前記荷電粒子ビームを加速する加速管、及び、加速器出射部に設けられるとともに、3重水素を吸蔵したチタンの高速中性子発生用ターゲットが配置されて、これに加速された荷電粒子ビームが照射され高速中性子を発生する高速中性子発生部を備え、1個の中性子の照射により3個の中性子を放出する(n,3n)反応の閾値に0.5MeVを加えた中性子エネルギーを下限値とし、上限値のエネルギーは、下限値以外のエネルギー値における(n,3n)反応の反応断面積が下限値における(n,3n)反応の反応断面積と等しくなるエネルギー値を上限値とする範囲内のエネルギー値を有する高速中性子が発生される程度の規模の小型加速器を用い、
前記荷電粒子ビーム照射によって発生された高速中性子を固体原料ターゲットに照射し、(n,3n)反応を起させ、放射性同位元素を直接にあるいはベータ崩壊により生成させることを特徴とする放射性同位元素の製造方法。
IPC (6):
G21G 1/06 ( 200 6.01)
, G21G 1/10 ( 200 6.01)
, G21K 5/08 ( 200 6.01)
, H05H 3/06 ( 200 6.01)
, H05H 6/00 ( 200 6.01)
, A61N 5/10 ( 200 6.01)
FI (9):
G21G 1/06
, G21G 1/10
, G21K 5/08 R
, G21K 5/08 C
, G21K 5/08 N
, H05H 3/06
, H05H 6/00
, A61N 5/10 A
, A61N 5/10 C
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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高エネルギ発生方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-248101
Applicant:財団法人レーザー技術総合研究所
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照射装置用ターゲット、および照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-017243
Applicant:三菱重工業株式会社
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中性子駆動元素変換器
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平11-503620
Applicant:ヨーロピアン・オーガニゼーション・フォア・ニュークリア・リサーチ
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特開平2-148700
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慣性静電閉じ込め核融合装置およびラジオアイソトープ製造システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-250290
Applicant:株式会社日立製作所
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低速陽電子ビーム発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-060479
Applicant:株式会社島津製作所
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Cited by examiner (6)
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高エネルギ発生方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-248101
Applicant:財団法人レーザー技術総合研究所
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照射装置用ターゲット、および照射装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-017243
Applicant:三菱重工業株式会社
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中性子駆動元素変換器
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平11-503620
Applicant:ヨーロピアン・オーガニゼーション・フォア・ニュークリア・リサーチ
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特開平2-148700
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慣性静電閉じ込め核融合装置およびラジオアイソトープ製造システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-250290
Applicant:株式会社日立製作所
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低速陽電子ビーム発生装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-060479
Applicant:株式会社島津製作所
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