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J-GLOBAL ID：201403096649916791

粒子線成形装置

Inventor： 武田 直希 ,  田原 雅哉 ,  小泉 和裕 ,  平山 紀友 ,  竹川 暢之 ,  宮川 拓真
Applicant, Patent owner： 富士電機株式会社 ,  国立大学法人 東京大学
Agent (2)： 松井 茂 ,  宮尾 武孝
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2014519734
Patent number：5611493
Application date： Oct. 17, 2013
Summary：

【要約】 粒子線を成形し、成形した粒子線の空間分布を評価し、制御できる粒子線成形装置を提供する。 気体中に粒子が分散した粒子源から、線状又は円錐状の粒子線を成形する粒子線成形装置において、内部が減圧された減圧容器12と、一端が減圧容器12外に配され、他端が減圧容器12内に配され、減圧容器12外の粒子源2を取り込み、減圧容器12内に粒子線を導入する粒子線生成手段3と、減圧容器12内での粒子線の空間分布を評価する粒子線評価手段とを備える。その粒子線評価手段は、粒子線に対して光を照射する光照射手段と、粒子線に対して照射された光が粒子に当り生じた散乱光を検出する散乱光検出手段14と、その散乱光の強度及び/又は頻度に対応して散乱光検出手段14から出力される信号を記録し、処理する信号処理手段15とを備えていることが好ましい。

Claim (excerpt)：

【請求項1】 気体中に粒子が分散した粒子源から、線状又は円錐状の粒子線を成形する粒子線成形装置において、 内部が減圧された減圧容器と、 一端が前記減圧容器外に配され、他端が前記減圧容器内に配され、前記減圧容器外の粒子源を取り込み、前記減圧容器内に粒子線を導入する粒子線生成手段と、 前記減圧容器内での前記粒子線の空間分布を評価する粒子線評価手段とを備え、 前記粒子線評価手段は、前記粒子線に対して光を照射する光照射手段と、前記粒子線に対して照射された光が前記粒子に当り生じた散乱光を検出する散乱光検出手段と、前記散乱光の強度及び/又は頻度に対応して前記散乱光検出手段から出力される信号を記録し、処理する信号処理手段とを備え、 前記信号処理手段によって、前記粒子線の進行方向に沿った複数位置からの前記信号に基づき、該複数位置での前記粒子線の空間的広がりを、前記散乱光の強度にわたる頻度分布及び/又はパルス幅にわたる頻度分布と、予め求められた前記光の空間的強度分布と粒子線の空間的広がりとの関係性から算出すると共に、各位置での空間的広がりから前記粒子線の広がり角を算出するように構成されていることを特徴とする粒子線成形装置。

IPC (1)：

G01N 15/14 ( 200 6.01)

FI (1)：

G01N 15/14 P

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 質量スペクトル測定用手段を含む装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-225489   Applicant：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
• 光学粒子計数器を較正検証するためのシステム及び方法
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2010-534241   Applicant：パーティクル・メージャーリング・システムズ・インコーポレーテッド
• フローサイトメトリーのための方法および装置
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2000-533737   Applicant：サイトメーション,インコーポレイテッド
• 粒径計測装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-104901   Applicant：国立大学法人電気通信大学, 興和株式会社
• 特開昭61-029738
  
• 特開昭61-128140
  
• 流動細胞分析装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-253459   Applicant：住友電気工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• レーザによる微小粒子分析技術の改良