Art

J-GLOBAL ID：201502220100718692   Reference number：15A0208886

Frequency Dispersion of Permittivity of SU-8 Resist Thin Film

SU-8レジスト薄膜の誘電率の周波数分散

Author (2)： KAWAI Akira (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN) ,  OHTANI Shogo (Nagaoka Univ. Technol., Niigata, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 27  Issue： 6  Page： 711-712  Publication year： 2014 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *permittivity ,  *photoresist ,  electrical measurement ,  *dispersion ,  dielectric loss tangent ,  dielectric property ,  thin film ,  temperature dependence ,  solid state device ,  material ,  *frequency dispersion ,  *photoresist SU-8 ,  capacitance measurement ,  electron device
Semi thesaurus term： *SU-8 ,  capacitance measurement ,  resist material ,  electron device

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (5)：

• 1. H. Sasazaki, A. Kawai. J. Photopolym, Sci. Technol. 22 (2009) 317.
• 2. M. Yamada, A. Kawai. J. Photopolym, Sci. Technol.24 (2011) 647.
• 3. K. F. Lei, M. H. Wu, C. W. Hsu, Yi Chen. Biosensors and Bioelectronics, 51 (2014) 16.
• 4. C. J. Chen, J. T. Liu, S. Chang, M. W. Lee, J. Tsai. Taiwan Institute of Chemical Engineers, 43 (2012) 678.
• 5. Z. Zou, J. Kai, M. J. Rust, J. Han, C. H. Ahn. Sensors and Actors A, 136 (2007) 518.

Terms in the title (4)： SU-8 ,  レジスト薄膜 ,  誘電率 ,  周波数分散