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J-GLOBAL ID：201502253944070260   Reference number：15A0491599

Effect of Background Pressure on Deposition Rate and Crystallinity of Deposited Silicon in Non-Equilibrium Plasma Jet CVD

非平衡プラズマジェットCVD法によるシリコン製膜時に装置内圧力が製膜速度,膜質におよぼす影響

Author (10)： NISHIDA SATOSHI (岐阜大学大学院工学研究科環境エネルギーシステム専攻) ,  NISHIDA SATOSHI (岐阜大学未来型太陽光発電システム研究センター) ,  NISHIDA SATOSHI (岐阜大学工学部機械工学科) ,  NODO RYO (岐阜大学大学院工学研究科環境エネルギーシステム専攻) ,  MUTA HIROSHI (岐阜大学大学院工学研究科環境エネルギーシステム専攻) ,  MUTA HIROSHI (岐阜大学未来型太陽光発電システム研究センター) ,  MUTA HIROSHI (岐阜大学工学部機械工学科) ,  KURIBAYASHI SHIZUMA (岐阜大学大学院工学研究科環境エネルギーシステム専攻) ,  KURIBAYASHI SHIZUMA (岐阜大学未来型太陽光発電システム研究センター) ,  KURIBAYASHI SHIZUMA (岐阜大学工学部機械工学科)
Material： 化学工学論文集
Volume： 41  Issue： 2  Page： 148-152 (J-STAGE)  Publication year： 2015 
JST Material Number： S0110B  ISSN： 0386-216X  CODEN： KKRBAW  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  film production ,  speedup ,  mass transfer ,  gas jet ,  *pressure effect ,  internal pressure ,  *growth rate ,  quality ,  *plasma treatment ,  cold plasma
Semi thesaurus term： *CVD ,  plasma process ,  gas jet ,  internal pressure ,  non-equilibrium plasma

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Applications of plasma  (BJ02110K)

Reference (17)：

• Abhinandan, L. and A. Holländer; “Localized Deposition of Hydrocarbon using Plasma Activated Chemical Vapour Deposition,” Thin Solid Films, 457, 241–246 (2004)
• Bhandarkar, U. V., M. T. Swihart, S. L. Girshick and U. R. Kortshagen; “Modelling of Silicon Hydride Clustering in a Low-pressure Silane Plasma,” J. Phys. D, 33, 2731–2746 (2000)
• Bird, B., W. Stewart and E. Lightfoot; Transport Phenomena, 2nd ed., pp. 11–39, John Wiley & Sons, U.S.A. (2007)
• Chae, Y. K., H. Ohno, K. Eguchi and T. Yoshida; “Ultrafast Deposition of Microcrystalline Si by Thermal Plasma Chemical Vapor Deposition,” J. Appl. Phys., 89, 8311–8315 (2001)
• Gardon, R. and J. Cobonpue; “Heat Transfer between a Flat Plate and Jets of Air Impinging on It,” Int. Develop. Heat Transf. ASME, 454–460 (1962)

Terms in the title (7)： 非平衡プラズマ ,  ジェット ,  CVD法 ,  シリコン ,  製膜 ,  内圧力 ,  膜質