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J-GLOBAL ID：201502272507436578   Reference number：15A0228632

Innovative UV nanoimprint lithography using a condensable alternative chlorofluorocarbon atmosphere

凝縮性代替可能クロロフルオロカーボン雰囲気を用いた革新的なUVナノインプリントリソグラフィー

Author (8)： MATSUI Shinji (Lab. of Advanced Sci. and Technol. for Ind., Univ. of Hyogo, 3-1-2 Koto, Kamigori, Ako, Hyogo 678-1201, JPN) ,  MATSUI Shinji (JST-CREST, 5 Sambancho, Chiyoda, Tokyo 102-0075, JPN) ,  HIROSHIMA Hiroshi (Res. Center for Ubiquitous MEMS and Micro Engineering, National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. ...) ,  HIROSHIMA Hiroshi (JST-CREST, 5 Sambancho, Chiyoda, Tokyo 102-0075, JPN) ,  HIRAI Yoshihiko (Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture Univ., 1-1 Gakuen-cho, Nakaku, Sakai, Osaka 599-8531, JPN) ,  HIRAI Yoshihiko (JST-CREST, 5 Sambancho, Chiyoda, Tokyo 102-0075, JPN) ,  NAKAGAWA Masaru (Inst. of Multidisciplinary Res. for Advanced Materials, Tohoku Univ., 2-1-1 Katahira, Aoba-ku, Sendai 980-8577, JPN) ,  NAKAGAWA Masaru (JST-CREST, 5 Sambancho, Chiyoda, Tokyo 102-0075, JPN)
Material： Microelectronic Engineering  (Microelectron Eng)
Volume： 133  Page： 134-155  Publication year： Feb. 05, 2015 
JST Material Number： C0406B  ISSN： 0167-9317  CODEN： MIENEF  Document type： Article
Article type： 文献レビュー  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,  condensation ,  gas ,  alternative freon ,  review ,  ultraviolet radiation ,  *pattern formation ,  *semiconductor process ,  *photocrosslinking ,  aliphatic fluorine compound ,  photopolymerizable resin ,  fron
Semi thesaurus term： *UV nanoimprint lithography

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Other reactions of polymer  (CG03040H)

Substance index (1)： 1,1,2,2,3-Pentafluoropropane

Terms in the title (5)： 凝縮性 ,  代替 ,  クロロフルオロカーボン ,  雰囲気 ,  UVナノインプリントリソグラフィー