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J-GLOBAL ID：201503017320768449

透明導電膜及び透明導電膜付き基板

Inventor： 山本 哲也 ,  山本 直樹 ,  牧野 久雄 ,  氏原 彰 ,  伊東 孝洋
Applicant, Patent owner： ジオマテック株式会社
Agent (2)： 秋山 敦 ,  城田 百合子
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2010265776
Publication number (International publication number)：2012117093
Patent number：5680386
Application date： Nov. 29, 2010
Publication date： Jun. 21, 2012
Claim (excerpt)：

【請求項1】 アルミニウム又はガリウムの少なくとも一方が1〜10wt%の範囲で含まれた酸化亜鉛からなり、透明基板上に形成された透明導電膜であって、 該透明導電膜は、Arガス及びH2ガスのみを含むガス雰囲気中、基板温度20°C以上230°C以下で、スパッタリング法により形成され、 単位結晶格子のc軸方向の格子定数が5.23〜5.28Åの範囲にあり、 a軸方向の格子定数が3.24〜3.26Åの範囲にあり、密度が5.55〜5.65g/cm3の範囲にあり、 かつ、 可視光域における透過率が85%以上であり、 波長550nmにおける屈折率が1.75〜1.80の範囲にあり、 比抵抗が8.0×10-4Ω・cm以下であることを特徴とする透明導電膜。

IPC (3)：

C23C 14/08 ( 200 6.01) ,  H01B 5/14 ( 200 6.01) ,  C23C 14/34 ( 200 6.01)

FI (3)：

C23C 14/08 C ,  H01B 5/14 A ,  C23C 14/34 K

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 透明導電膜とその製造方法およびスパッタリングターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-208158   Applicant：旭硝子株式会社
• 反射防止膜の成膜方法及び反射防止膜並びに成膜装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-209208   Applicant：株式会社アルバック
• 酸化物透明導電膜、およびそれを用いた光電変換素子、光検出素子
  Gazette classification：再公表公報   Application number：JP2008059416   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

Cited by examiner (3)

• 透明導電膜とその製造方法およびスパッタリングターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-208158   Applicant：旭硝子株式会社
• 反射防止膜の成膜方法及び反射防止膜並びに成膜装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2008-209208   Applicant：株式会社アルバック
• 酸化物透明導電膜、およびそれを用いた光電変換素子、光検出素子
  Gazette classification：再公表公報   Application number：JP2008059416   Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所