磁場発生装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： , ,
Agent (3)：梶良之 , 須原誠 , 一角哲也
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2013123623
Publication number (International publication number)：2014240797
Application date： Jun. 12, 2013
Publication date： Dec. 25, 2014
Summary：

【課題】磁場の均一度を高め、且つ、装置全体が大型化するのを抑制することが可能な磁場発生装置を提供する。【解決手段】ReBCO系超電導線材が巻回されてなるメインコイル2が発生させる磁場の均一度を補正する磁場を発生させる電流可変補正コイル4を、メインコイル2の内側に設ける。電流可変補正コイル4が発生させる磁場は、ReBCO系超電導線材の超電導層に流れる遮蔽電流の影響をほとんど受けない。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

ReBCO系超電導線材が巻回されてなり、計測空間に磁場を発生させるメインコイルと、前記メインコイルと同軸であって、前記メインコイルの内側に設けられ、前記メインコイルが発生させる磁場の均一度を補正する磁場を発生させる、電流値が可変な電流可変補正コイルと、を有することを特徴とする磁場発生装置。

IPC (6)：

G01R 33/381 , A61B 5/055 , G01R 33/387 , H01F 7/20 , H01F 5/00 , H01F 6/00

FI (8)：

G01N24/06 510C , A61B5/05 331 , A61B5/05 332 , G01N24/06 520J , G01N24/06 510H , H01F7/20 C , H01F5/00 C , H01F7/22 C

F-Term (8)：

4C096AB32 , 4C096AB42 , 4C096AD08 , 4C096CA02 , 4C096CA22 , 4C096CA40 , 4C096CA47 , 4C096CA70

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

均一磁場発生装置およびそれを用いた核磁気共鳴装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-120237 Applicant：株式会社日立製作所
シムトレイ温度制御装置を備えた磁気共鳴イメージング装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-316445 Applicant：株式会社日立製作所
磁気共鳴結像装置に使用するための電磁石
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-307549 Applicant：オックスフォードマグネットテクノロジーリミテッド

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

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