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J-GLOBAL ID：201503063931670454

酸化インジウム系化合物を含むブラスト処理物の濃縮方法

Inventor： 加納 純也 ,  齋藤 文良 ,  松田 和男 ,  星山 健
Applicant, Patent owner： 国立大学法人東北大学 ,  株式会社ダイトク
Agent (1)： 特許業務法人みのり特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2011095164
Publication number (International publication number)：2012223729
Patent number：5694842
Application date： Apr. 21, 2011
Publication date： Nov. 15, 2012
Claim (excerpt)：

【請求項1】 酸化インジウム系化合物を含むブラスト処理物を濃縮する方法であって、 前記ブラスト処理物が、酸化インジウム系化合物含有膜の付着している物体から、植物系ブラスト材を用いたブラスト処理により、前記膜成分を剥離することによって得られたものであること、および、 酸化インジウム系化合物と植物系ブラスト材とを含む前記ブラスト処理物を焼成することによって、前記ブラスト材を燃焼し、ブラスト処理物中の酸化インジウム系化合物の比率を高める工程を含むこと を特徴とする、ブラスト処理物の濃縮方法。

IPC (5)：

B09B 5/00 ( 200 6.01) ,  C01G 15/00 ( 200 6.01) ,  B09B 3/00 ( 200 6.01) ,  B24C 1/00 ( 200 6.01) ,  C22B 58/00 ( 200 6.01)

FI (7)：

B09B 5/00 ZAB C ,  C01G 15/00 B ,  B09B 3/00 303 A ,  B09B 3/00 303 Z ,  B09B 5/00 Z ,  B24C 1/00 C ,  C22B 58/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 基板処理方法及び基板処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2006-327884   Applicant：エプソンイメージングデバイス株式会社
• 酸化In系スクラップ粉からブラスト粉を分離する粉末濃縮方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-342844   Applicant：三井金属鉱業株式会社
• 廃液晶パネルのガラス基板を回収する方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2007-052912   Applicant：シャープ株式会社
• ブラスト加工用研掃材及びブラスト加工方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-212794   Applicant：株式会社不二機販