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J-GLOBAL ID：201602248996461454   Reference number：16A1038131

Fabrication and Luminescence Properties of Thin Film Phosphor Prepared by RF Magnetron Sputtering Method

RFマグネトロンスパッタリング法を用いた薄膜蛍光体の作製とその発光特性の評価

Author (4)： FUJIHARA KOJIRO (宮崎大) ,  EBIHARA MASAHIRO (宮崎大) ,  YOKOYAMA HIROSUMI (宮崎大) ,  MAEDA KOJI (宮崎大)
Material： 宮崎大学工学部紀要(Web)  (Memoirs of Faculty of Engineering, University of Miyazaki (Web))
Issue： 45  Page： 91-94 (WEB ONLY)  Publication year： Jul. 29, 2016 
JST Material Number： U0521A  ISSN： 0540-4924  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *phosphor ,  *sputtered deposition ,  *magnetron sputtering ,  light emission ,  response characteristic ,  photoluminescence ,  quantum size effect ,  buffer layer ,  silica glass ,  atmosphere (environment) ,  reducibility ,  annealing (heat treatment) ,  shape effect ,  blue light ,  X-Ray Diffraction ,  Europium ,  *aluminate ,  *strontium compound ,  *dielectric thin film ,  *strontium aluminate ,  Reducing atmosphere ,  emission characteristic
Semi thesaurus term： *RF magnetron sputtering

JST classification (1)： Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (6)： RFマグネトロンスパッタリング ,  薄膜 ,  蛍光体 ,  作製 ,  発光特性 ,  評価