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J-GLOBAL ID:201603003499201427
酸化膜並びにその成膜方法および補修方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
特許業務法人創成国際特許事務所
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2011207787
Publication number (International publication number):2012089836
Patent number:5871305
Application date: Sep. 22, 2011
Publication date: May. 10, 2012
Claim (excerpt):
【請求項1】テトラキス(アセチルアセトナト)ジルコニウムを溶質とし、エタノールを溶媒とし、アセチルアセトンを第1助剤として、当該第1助剤の濃度が0.02〜2[vol.%]または20〜40[vol.%]になるように調節されている原料溶液を調製し、
基板に対して前記原料溶液のミストを供給し、雰囲気の加熱により前記溶媒を蒸発させるとともに前記溶質を構成するジルコニウムを酸化させるという気相成長のプロセスを繰り返すことにより、前記基板の上にジルコニア薄膜を成膜することを特徴とする成膜方法。
IPC (2):
H01L 21/316 ( 200 6.01)
, C01G 25/02 ( 200 6.01)
FI (2):
H01L 21/316 X
, C01G 25/02
Patent cited by the Patent: