傾斜機能膜及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人創成国際特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2012211718
Publication number (International publication number)：2014067845
Patent number：6032597
Application date： Sep. 26, 2012
Publication date： Apr. 17, 2014
Claim (excerpt)：

【請求項1】電気特性が膜厚方向について変化する傾斜機能膜を製造する方法であって、ジルコニウム無機塩を溶質とし、アルコールを溶媒とし、ケトン類化合物を第1助剤とし、前記第1助剤の濃度が調節されている原料溶液を調整し、基板に対して前記原料溶液のミストを供給し、雰囲気の加熱により前記溶媒を蒸発させるとともに前記溶質を構成するジルコニウムを酸化させるというプロセスを繰り返す過程で、前記雰囲気の温度を400〜600°Cの温度範囲で高温から低温まで断続的に変化させ、前記基板の上に電気特性が異なる複数の機能層を順に積層させることにより前記傾斜機能膜を製造することを特徴とする方法。

IPC (1)：

H01L 21/316 ( 200 6.01)

FI (2)：

H01L 21/316 X , H01L 21/316 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

不揮発性記憶素子およびその製造方法、並びにその不揮発性記憶素子を用いた不揮発性半導体装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-180944 Applicant：パナソニック株式会社
酸化膜並びにその成膜方法および補修方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-207787 Applicant：独立行政法人国立高等専門学校機構
特開平3-009571

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