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J-GLOBAL ID：201702234377047890   Reference number：17A1090452

Patterned Wafer Geometry Grouping for Improved Overlay Control

改良型オーバレイ制御用のパターン形成ウエハ幾何形状のグループ化

Author (13)： LEE Honggoo (SK Hynix, Gyeonggi-do, KOR) ,  HAN Sangjun (SK Hynix, Gyeonggi-do, KOR) ,  WOO Jaeson (SK Hynix, Gyeonggi-do, KOR) ,  PARK Junbeom (SK Hynix, Gyeonggi-do, KOR) ,  SONG Changrock (SK Hynix, Gyeonggi-do, KOR) ,  ANIS Fatima (KLA-Tencor Corp., CA) ,  VUKKADALA Pradeep (KLA-Tencor Corp., CA) ,  JEON Sanghuck (KLA-Tencor Korea, Gyeonggi-do, KOR) ,  CHOI DongSub (KLA-Tencor Korea, Gyeonggi-do, KOR) ,  HUANG Kevin (KLA-Tencor Corp., CA) ,  HEO Hoyoung (KLA-Tencor Corp., CA) ,  SMITH Mark D (KLA-Tencor Corp., CA) ,  ROBINSON John C. (KLA-Tencor Corp., CA)
Material： Proceedings of SPIE  (Proceedings. SPIE - The International Society for Optical Engineering)
Volume： 10145  Issue： Pt.1  Page： 101450O.1-101450O.8  Publication year： 2017 
JST Material Number： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： photolithography ,  *control ,  superposition ,  *circuit pattern generation ,  semiconductor process ,  *wafer ,  accuracy ,  DRAM ,  stress(mechanics) ,  morphology(form) ,  tolerance(range)
Semi thesaurus term： ウエハ応力 ,  ウエハ形状 ,  オーバレイ誤差 ,  *オーバレイ制御 ,  overlay precision ,  grouping

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (5)： オーバレイ ,  パターン形成 ,  ウエハ ,  幾何形状 ,  グループ化