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J-GLOBAL ID：201703000685243090

振動環境下での波長走査を用いた形状計測方法及び装置

Inventor：
安達 正明

About 安達 正明


Applicant, Patent owner：
ミツテック株式会社

About ミツテック株式会社


Agent (1)： 天野 一規
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2014035873
Publication number (International publication number)：2015161544
Patent number：6194813
Application date： Feb. 26, 2014
Publication date： Sep. 07, 2015
Claim (excerpt)：
【請求項1】 不規則な垂直振動環境下で、垂直方向から複数波長による光を照射して、測定対象物の不連続な粗面の高さを計測する振動環境下での波長走査を用いた形状計測方法であって、 特定波長で複数枚のスペックル干渉像を撮影する撮影ステップと、 前記スペックル干渉像を撮影した複数枚の画像を記憶する記憶ステップと、 前記記憶ステップで記憶された複数枚の前記画像について、前記画像を構成する画素の中から、測定点抽出に用いる複数の前記画素を抽出する画素抽出ステップと、 前記画素抽出ステップで抽出した前記画素別に、最大光強度と最小光強度との差を算出し、前記差が所定値よりも大きな前記画素の中からいずれかを第1測定画素(P91)として抽出する第1測定画素抽出ステップと、 前記第1測定画素(P91)に基づいて、前記最大光強度と前記最小光強度との和の1/2である前記画像(Pc)を特定する画像特定ステップと、 前記第1測定画素として抽出した前記画素(P91)を除き、前記画素抽出ステップで抽出した前記画素(P11〜P81)別に、前記最大光強度と前記最小光強度との前記差を算出し、前記差が所定値よりも大きな前記画素の中から、前記画像特定ステップで特定した前記画像(Pc)における画素(Pc51)の光強度が前記最大光強度となっている前記画素(P51)を第2測定画素として抽出する第2測定画素抽出ステップと、 前記第1測定画素と前記第2測定画素を1組の測定点として、2回規格化法を用いて、抽出した複数の前記画像の位相変化量を算出する位相変化量算出ステップと、 前記位相変化量算出ステップで算出した前記位相変化量から、位相変化に対する光強度変化の最小二乗近似を用いて1枚の前記画像における全ての前記画素についての前記スペックル干渉像の位相を算出するスペックル干渉像位相算出ステップと を備え、 前記特定波長として、第1特定波長と第2特定波長を用い、 前記第1特定波長について算出した前記スペックル干渉像の前記位相と、前記第2特定波長について算出した前記スペックル干渉像の前記位相との位相変化量を算出する波長間位相差算出ステップと、 前記第1特定波長と前記第2特定波長との波長変化量と、前記波長間位相差算出ステップで算出した前記位相変化量とから前記測定対象物の前記粗面の前記高さを算出する形状計算ステップと を有することを特徴とする振動環境下での波長走査を用いた形状計測方法。
IPC (2)：
G01B 11/24 ( 200 6.01) ,  G06T 1/00 ( 200 6.01)
FI (2)：
G01B 11/24 D ,  G06T 1/00 305 B
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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