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J-GLOBAL ID：201003074634920803

位相シフト法による形状測定方法及び測定装置

Inventor：
安達 正明

About 安達 正明

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五十島 一興

About 五十島 一興


Applicant, Patent owner：
国立大学法人金沢大学

About 国立大学法人金沢大学

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立山マシン株式会社

About 立山マシン株式会社


Agent (1)： 廣澤 勲
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008172666
Publication number (International publication number)：2010014444
Application date： Jul. 01, 2008
Publication date： Jan. 21, 2010
Summary：
【課題】小型の装置で、振動のある環境下においても高精度に形状測定が可能な位相シフト法による形状測定方法及び形状測定装置を提供する。【解決手段】2つのLED12,22と、光路上に設けられた半透明鏡18,28,32,46,66及び参照鏡38と、測定対象物36を垂直移動可能に載置した移動ステージ34を有する。LED12,22の光とは波長の異なるレーザ光を照射するレーザ干渉式測定装置60を備える。LED12,22からの光を測定対象物36の平面に照射するとともに、レーザ光を測定対象物36の平面に照射し、且つLED12,22からの光及びレーザ光を参照鏡38に導いて、測定対象物36からの反射光と参照鏡38からの反射光との干渉像を各々形成する干渉光学系50を備える。レーザ光の干渉像から測定対象物36表面の高さ位置情報を演算する距離演算処理部76と、LED12,22を発光させる発光制御部78とを備える。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
光の進行方向に沿って測定対象物を移動可能に位置させた状態で、前記測定対象物に対して光を照射し、その光の前記測定対象物からの反射光と参照鏡からの反射光とにより生成される干渉像を半導体イメージセンサで撮像し、前記測定対象物の前記光の進行方向に沿った移動量を、前記光の波長に対する位相シフト量として、前記測定対象物の形状を前記干渉像の光強度情報を基に測定する位相シフト法による形状測定方法において、 レーザ干渉式測定装置を用いて、前記測定対象物の平面に前記光とは波長の異なるレーザ光を照射し、前記光の光路の一部を共用して前記反射鏡にも前記レーザ光を照射して、前記レーザ光の前記測定対象物からの反射光と前記反射鏡からの反射光との干渉像により、前記測定対象物の高さ位置情報を演算し、 前記測定対象物の移動量が所定の前記位相シフト量になったことを、前記レーザ干渉式測定装置による前記高さ位置情報により検知して、前記半導体イメージセンサにより前記干渉画像を撮像し、前記位相シフト法により前記測定対象物の形状を前記干渉像の光強度情報を基に測定することを特徴とする位相シフト法による形状測定方法。
IPC (1)：
G01B 11/24
FI (2)：
G01B11/24 D ,  G01B11/24 K
F-Term (10)：
2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD02 ,  2F065FF52 ,  2F065GG06 ,  2F065JJ19 ,  2F065MM02 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ25 ,  2F065UU05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1) Cited by examiner (3)

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