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J-GLOBAL ID:201703002063235882

合成ダイヤモンド材料を製造するマイクロ波プラズマ反応器

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (6): 西島 孝喜 ,  弟子丸 健 ,  田中 伸一郎 ,  松下 満 ,  倉澤 伊知郎 ,  渡邊 誠
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2016573532
Publication number (International publication number):2017521556
Application date: Jun. 10, 2015
Publication date: Aug. 03, 2017
Summary:
化学気相成長により合成ダイヤモンド材料を製造するマイクロ波プラズマ反応器であって、マイクロ波プラズマ反応器は、一次マイクロ波共振モード周波数fを有する一次マイクロ波共振モードを支える空胴共振器を構成するプラズマチャンバと、プラズマチャンバに結合されていて、全マイクロ波電力Pτを有するマイクロ波を発生させてかかるマイクロ波をプラズマチャンバ中に送り込む複数のマイクロ波源と、プロセスガスをプラズマチャンバ中に送り込んだりプロセスガスをプラズマチャンバから除去したりするガス流システムと、プラズマチャンバ内に設けられると共に使用中に合成ダイヤモンド材料を析出させるべき基板を支持する支持面を備えた基板ホルダとを有し、複数のマイクロ波源は、全マイクロ波電力Pτのうちの少なくとも30%を一次マイクロ波共振モード周波数fでプラズマチャンバ中に結合するよう構成され、複数のマイクロ波源のうちの少なくとも幾つかは、ソリッドステートマイクロ波源であることを特徴とするマイクロ波プラズマ反応器。【選択図】図1
Claim (excerpt):
化学気相成長により合成ダイヤモンド材料を製造するマイクロ波プラズマ反応器であって、前記マイクロ波プラズマ反応器は、 一次マイクロ波共振モード周波数fを有する一次マイクロ波共振モードを支える空胴共振器を構成するプラズマチャンバと、 前記プラズマチャンバに結合されていて、全マイクロ波電力PTを有するマイクロ波を発生させて該マイクロ波を前記プラズマチャンバ中に送り込む複数のマイクロ波源と、 プロセスガスを前記プラズマチャンバ中に送り込んだり前記プロセスガスを前記プラズマチャンバから除去したりするガス流システムと、 前記プラズマチャンバ内に設けられると共に使用中に前記合成ダイヤモンド材料を析出させるべき基板を支持する支持面を備えた基板ホルダとを有し、 前記複数のマイクロ波源は、前記全マイクロ波電力PTのうちの少なくとも30%を前記一次マイクロ波共振モード周波数fで前記プラズマチャンバ中に結合するよう構成され、前記複数のマイクロ波源のうちの少なくとも幾つかは、ソリッドステートマイクロ波源である、マイクロ波プラズマ反応器。
IPC (4):
C23C 16/27 ,  C23C 16/511 ,  H01L 21/306 ,  H05H 1/46
FI (4):
C23C16/27 ,  C23C16/511 ,  H01L21/302 101D ,  H05H1/46 B
F-Term (35):
2G084AA05 ,  2G084BB02 ,  2G084BB05 ,  2G084BB12 ,  2G084BB13 ,  2G084BB14 ,  2G084BB28 ,  2G084BB37 ,  2G084CC03 ,  2G084CC04 ,  2G084CC06 ,  2G084CC08 ,  2G084CC14 ,  2G084CC33 ,  2G084DD04 ,  2G084DD12 ,  2G084DD25 ,  2G084DD35 ,  2G084DD62 ,  2G084DD66 ,  2G084EE09 ,  2G084FF04 ,  2G084FF40 ,  4K030AA09 ,  4K030BA27 ,  4K030BB02 ,  4K030BB03 ,  4K030CA02 ,  4K030CA11 ,  4K030FA01 ,  4K030JA16 ,  4K030JA18 ,  5F004AA01 ,  5F004BB14 ,  5F004BD04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
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