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J-GLOBAL ID:201703008615999686

銅の電解精製装置および電解精製方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2015174402
Publication number (International publication number):2017048438
Application date: Sep. 04, 2015
Publication date: Mar. 09, 2017
Summary:
【課題】陰極へのスライム付着を抑制しつつ、陽極表面における銅イオンの溶出を促進し、陽極の不動態化を防ぐ。【解決手段】銅の電解精製装置1において、電解液Eが貯留する電解槽2と、電解槽2に浸漬するように支持された陽極3および陰極4と、電解液Eを攪拌する攪拌機10とを備えさせ、電解液Eに浸漬する攪拌機10の攪拌部を陽極3と陰極4との間に設け、攪拌部の構造を、攪拌機10の作動時に陽極3に向かう電解液Eが陽極表面に対して垂直な流れFを形成するような構造とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
銅の電解精製装置であって、 電解液が貯留する電解槽と、 前記電解槽に浸漬するように支持された陽極および陰極と、 前記電解液を攪拌する攪拌機とを備え、 前記電解液に浸漬する前記攪拌機の攪拌部が、前記陽極と前記陰極との間に設けられ、 前記攪拌部は、前記攪拌機の作動時に前記陽極に向かう電解液が前記陽極の表面に対して垂直な流れを形成するような構造を有している、銅の電解精製装置。
IPC (3):
C25C 7/00 ,  C25C 1/12 ,  C25C 7/06
FI (3):
C25C7/00 301 ,  C25C1/12 ,  C25C7/06 301A
F-Term (8):
4K058AA07 ,  4K058BA21 ,  4K058BB03 ,  4K058CA04 ,  4K058CA25 ,  4K058DD06 ,  4K058DD30 ,  4K058EC04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (10)
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Cited by examiner (10)
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