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J-GLOBAL ID:201703009764041025
高周波超音波圧電素子、その製造方法、及びそれを含む高周波超音波プローブ
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
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Agent (2):
井関 勝守
, 金子 修平
Gazette classification:特許公報
Application number (International application number):2015126268
Publication number (International publication number):2017011144
Patent number:6122066
Application date: Jun. 24, 2015
Publication date: Jan. 12, 2017
Claim (excerpt):
【請求項1】板状であり且つその表面に長さ方向に延びる1つの凹部を有する下部電極を準備するステップと、
前記下部電極の前記凹部の底面に、ゾルゲル溶液と圧電粉末とを含む複合体をスプレー法により塗布し、前記塗布された複合体を焼結して圧電膜を形成するステップと、
前記圧電膜の上に、前記凹部が延びる方向に沿って整列するように配置された複数の上部電極を形成するステップとを備え、
前記凹部の表面は曲面状であることを特徴とする高周波超音波圧電素子の製造方法。
IPC (8):
H01L 41/318 ( 201 3.01)
, H01L 41/29 ( 201 3.01)
, H01L 41/43 ( 201 3.01)
, H01L 41/09 ( 200 6.01)
, H01L 41/047 ( 200 6.01)
, H04R 31/00 ( 200 6.01)
, H04R 17/00 ( 200 6.01)
, A61B 8/14 ( 200 6.01)
FI (10):
H01L 41/318
, H01L 41/29
, H01L 41/43
, H01L 41/09
, H01L 41/047
, H04R 31/00 330
, H04R 17/00 330 H
, H04R 17/00 332 B
, H04R 17/00 330 A
, A61B 8/14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
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金属酸化物膜付き基板及び金属酸化物膜付き基板の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-188212
Applicant:日本特殊陶業株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2011-127437
Applicant:日立GEニュークリア・エナジー株式会社
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-275600
Applicant:キヤノン株式会社, 富士化学株式会社
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強誘電体薄膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2012-076096
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2012-031840
Applicant:三菱重工業株式会社
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Gazette classification:公表公報
Application number:特願2007-558115
Applicant:リサーチ・トライアングル・インスティチュート
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-114494
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Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-150873
Applicant:コニカミノルタエムジー株式会社
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