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J-GLOBAL ID:201703012247226849
単電子トランジスタ及びその製造方法並びに集積回路
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
,
,
Agent (1):
塩田 伸
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2015146869
Publication number (International publication number):2017028153
Application date: Jul. 24, 2015
Publication date: Feb. 02, 2017
Summary:
【課題】容易に製造可能で、且つ、室温で単電子動作可能な単電子トランジスタを提供する。【解決手段】単電子トランジスタ10は、ソース部12及びソース部12と離間して配されるドレイン部13と、ソース部12及びドレイン部13の間に配されるとともにソース部12との境界及びドレイン部13との境界のそれぞれでトンネル接合が形成され、領域中に量子ドットを形成する量子ドット形成不純物dが含まれる量子ドット形成半導体部11と、少なくとも量子ドット形成半導体部11上にゲート絶縁膜14を介してゲート電極15が配されるゲート部と、で形成され、量子ドット形成半導体部11をチャネル部としたトンネル電界効果トランジスタの構造を有する。ソース部12及びドレイン部13間の最短距離であるゲート長が大きくとも100nm未満である。【選択図】図3
Claim (excerpt):
ソース部及び前記ソース部と離間して配されるドレイン部と、
前記ソース部及び前記ドレイン部の間に配されるとともに前記ソース部との境界及び前記ドレイン部との境界のそれぞれでトンネル接合が形成され、領域中に量子ドットを形成する量子ドット形成不純物が含まれる量子ドット形成半導体部と、
少なくとも前記量子ドット形成半導体部上にゲート絶縁膜を介してゲート電極が配されるゲート部と、で形成され、
前記量子ドット形成半導体部をチャネル部としたトンネル電界効果トランジスタの構造を有し、
前記ソース部及び前記ドレイン部間の最短距離であるゲート長が大きくとも100nm未満であることを特徴とする単電子トランジスタ。
IPC (9):
H01L 21/336
, H01L 29/78
, H01L 29/66
, H01L 29/786
, H01L 29/06
, H01L 29/47
, H01L 29/872
, H01L 29/417
, B82Y 10/00
FI (10):
H01L29/78 301J
, H01L29/66 S
, H01L29/78 622
, H01L29/78 626Z
, H01L29/78 618F
, H01L29/06 601D
, H01L29/06 601N
, H01L29/48 F
, H01L29/50 M
, B82Y10/00
F-Term (58):
4M104AA01
, 4M104BB21
, 4M104BB30
, 4M104BB32
, 4M104CC03
, 4M104DD37
, 4M104DD43
, 4M104GG09
, 5F110AA30
, 5F110BB13
, 5F110CC10
, 5F110DD05
, 5F110DD13
, 5F110EE01
, 5F110EE05
, 5F110EE09
, 5F110EE14
, 5F110EE44
, 5F110EE45
, 5F110FF01
, 5F110FF27
, 5F110FF28
, 5F110FF29
, 5F110GG01
, 5F110GG02
, 5F110GG03
, 5F110GG06
, 5F110GG12
, 5F110GG25
, 5F110GG28
, 5F110GG32
, 5F110GG34
, 5F110GG52
, 5F110GG58
, 5F110HJ01
, 5F110HJ04
, 5F110HJ07
, 5F110HJ13
, 5F110HJ23
, 5F110HK05
, 5F110HK34
, 5F140AC12
, 5F140AC13
, 5F140AC20
, 5F140AC36
, 5F140BA01
, 5F140BA03
, 5F140BA05
, 5F140BB15
, 5F140BC06
, 5F140BC17
, 5F140BD11
, 5F140BE09
, 5F140BF10
, 5F140BF11
, 5F140BF14
, 5F140BJ30
, 5F140BK13
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
原子スケール規模の装置の製造
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2010-545327
Applicant:クコーピーティーワイリミテッド
-
液晶表示装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-133822
Applicant:日本ビクター株式会社
-
特開昭63-206726
-
量子ドット型MOSトランジスタおよびその製造方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平10-501321
Applicant:コミツサリアタレネルジーアトミーク
-
半導体装置及びその駆動方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-149207
Applicant:日本電信電話株式会社
-
回 路
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-012390
Applicant:株式会社日立製作所
-
単一電子素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-163959
Applicant:日本電気株式会社
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