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J-GLOBAL ID：201703014579498020

樹脂製マイクロニードルとその形成方法および3次元パターンの形成方法

Inventor：
加藤 暢宏

About 加藤 暢宏


Applicant, Patent owner：
学校法人近畿大学

About 学校法人近畿大学


Agent (1)： 廣幸 正樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2017046613
Publication number (International publication number)：2017202302
Application date： Mar. 10, 2017
Publication date： Nov. 16, 2017
Summary：
【課題】根元に補強構造を有するマイクロニードルを得るには、フォトリソグラフィを用いて凹み型を作製し、その転写型を電鋳することでしか得ることができなかった。【解決手段】透明基板12上にネガ型フォトレジスト10を塗布する工程と、前記透明基板12の前記ネガ型フォトレジスト10を塗布した面の裏面に移動可能にマスク16を配置する工程と、前記マスク16に対して前記透明基板12とは反対側から第1の波長の紫外線を照射しながら前記マスク16と前記透明基板12を相対的に移動させる工程と、前記マスク16に対して前記透明基板12とは反対側から第2の波長の紫外線を照射しながら前記第1の波長が照射された領域に少なくとも一部が重なるように前記マスク16と前記透明基板12を相対的に移動させる工程を有することを特徴とする樹脂製マイクロニードルの形成方法。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
透明基板上にネガ型フォトレジストを塗布する工程と、 前記透明基板の前記ネガ型フォトレジストを塗布した面の裏面に移動可能にマスクを配置する工程と、 前記マスクに対して前記透明基板とは反対側から第1の波長の紫外線を照射しながら前記マスクと前記透明基板を相対的に移動させる工程と、 前記マスクに対して前記透明基板とは反対側から第2の波長の紫外線を照射しながら前記第1の波長が照射された領域に少なくとも一部が重なるように前記マスクと前記透明基板を相対的に移動させる工程を有することを特徴とする樹脂製マイクロニードルの形成方法。
IPC (3)：
A61M 37/00 ,  B29C 35/08 ,  B29C 33/40
FI (3)：
A61M37/00 505 ,  B29C35/08 ,  B29C33/40
F-Term (26)：
4C167AA71 ,  4C167BB04 ,  4C167BB48 ,  4C167CC01 ,  4C167HH01 ,  4F202AA44 ,  4F202AG28 ,  4F202AH81 ,  4F202AJ05 ,  4F202AK03 ,  4F202AR12 ,  4F202CA01 ,  4F202CB01 ,  4F202CD12 ,  4F202CM26 ,  4F202CM30 ,  4F203AA44 ,  4F203AG28 ,  4F203AH81 ,  4F203AK03 ,  4F203AR12 ,  4F203DA12 ,  4F203DB01 ,  4F203DC08 ,  4F203DL19 ,  4F203DM12
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (6)
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