紫外線露光方法、紫外線露光装置、微細構造体の製造方法、及びこれによって製造された微細構造体

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：渡辺三彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005142859
Publication number (International publication number)：2006317870
Application date： May. 16, 2005
Publication date： Nov. 24, 2006
Summary：

【課題】低コストで、高精度な微細構造体を得ることができる方法及び装置を提供すること。【解決手段】本発明の紫外線露光方法は、紫外線源2が放射する紫外線を1又は複数枚のフォトマスク4を介して材料5bに露光する紫外線露光方法であって、紫外線源2は、複数波長又は連続波長の紫外線を放射するものである。また、材料5bの露光中に、材料5bの表面と平行な平面内における紫外線のエネルギー分布が連続的に変化するように、フォトマスク4を材料5bの表面に対して平行方向に相対的に移動させるものである。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

紫外線源が放射する紫外線を1又は複数枚のフォトマスクを介して材料に露光する紫外線露光方法であって、前記紫外線源は、複数波長又は連続波長の紫外線を放射するものであることを特徴とする紫外線露光方法。

IPC (1)：

G03F 7/20

FI (1)：

G03F7/20 501

F-Term (5)：

2H097AA12 , 2H097AB03 , 2H097CA12 , 2H097GA45 , 2H097LA15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

LIGAプロセス用マスクの作製方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-161644 Applicant：日本電気株式会社

Cited by examiner (11)

露光装置及びデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-235319 Applicant：株式会社ニコン
露光用マスク、露光装置、露光方法及び液晶表示装置の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-342296 Applicant：富士通株式会社
X線照射を用いた材料の加工方法及び加工装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-202223 Applicant：学校法人立命館

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