気体分離フィルタの製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：木村満 , 末次渉 , 毛受隆典
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2016014990
Publication number (International publication number)：2017131849
Application date： Jan. 29, 2016
Publication date： Aug. 03, 2017
Summary：

【課題】気体選択性に優れた気体分離フィルタの製造方法を提供する。【解決手段】気体分離フィルタの製造方法は、多孔質基材の上に大気圧プラズマ化学気相成長法で分離層を形成する気体分離フィルタの製造方法であって、放電ガスとして窒素及びアルゴンの混合ガスを放電部に導入して大気圧プラズマを発生させ、揮発性有機ケイ素化合物を放電部の下方に導入し、大気圧プラズマに混合させて多孔質基材の上に分離層を形成する。そして、放電ガス中の窒素が5.0体積%以下である。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

多孔質基材の上に大気圧プラズマ化学気相成長法で分離層を形成する気体分離フィルタの製造方法であって、放電ガスとして窒素及びアルゴンの混合ガスを放電部に導入して大気圧プラズマを発生させ、揮発性有機ケイ素化合物を放電部の下方に導入して前記大気圧プラズマに混合させ、前記多孔質基材の上に分離層を形成し、前記放電ガス中の窒素が5.0体積%以下である、ことを特徴とする気体分離フィルタの製造方法。

IPC (6)：

B01D 71/70 , B01D 69/10 , B01D 69/12 , C23C 16/513 , C23C 16/56 , H05H 1/24

FI (6)：

B01D71/70 500 , B01D69/10 , B01D69/12 , C23C16/513 , C23C16/56 , H05H1/24

F-Term (32)：

2G084AA05 , 2G084CC18 , 2G084CC34 , 2G084FF12 , 2G084GG18 , 2G084GG24 , 4D006GA41 , 4D006MA02 , 4D006MA09 , 4D006MA21 , 4D006MC03 , 4D006MC65X , 4D006NA43 , 4D006NA62 , 4D006PA01 , 4D006PB63 , 4D006PB64 , 4D006PB66 , 4D006PB68 , 4D006PB70 , 4K030AA11 , 4K030AA16 , 4K030AA18 , 4K030BA44 , 4K030CA05 , 4K030CA16 , 4K030DA09 , 4K030EA01 , 4K030EA04 , 4K030FA01 , 4K030JA06 , 4K030JA10

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

特開昭57-150423
特開昭62-286503
水素ガス分離材の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2008-046653 Applicant：株式会社ノリタケカンパニーリミテド

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Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

大気圧プラズマCVD法によるシリカ膜の作製

Cited by examiner (1)

大気圧プラズマCVD法によるシリカ膜の作製

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