流体分離材料及びその製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：特許業務法人信栄特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2013154759
Publication number (International publication number)：2015024363
Patent number：6154692
Application date： Jul. 25, 2013
Publication date： Feb. 05, 2015
Claim (excerpt)：

【請求項1】 CVD法により作製した、気孔率が35%以上70%以下で平均細孔径が250nm以上450nm以下である多孔質シリカ基体と、前記多孔質シリカ基体上に形成される流体分離能を有するシリカ分離膜と、前記多孔質シリカ基体と前記シリカ分離膜との間に設けられ、少なくとも平均粒子径が200nm以上400nm以下であって、BET比表面積[m2/g]と平均粒子径[nm]の積が7000以下であるシリカ粒子を用いて形成され、厚みが1μm以上10μm以下である中間層と、を備えている流体分離材料。

IPC (6)：

B01D 71/02 ( 200 6.01) , C01B 33/12 ( 200 6.01) , B01D 69/10 ( 200 6.01) , B01D 69/12 ( 200 6.01) , H01M 8/0606 ( 201 6.01) , H01M 8/10 ( 201 6.01)

FI (6)：

B01D 71/02 500 , C01B 33/12 C , B01D 69/10 , B01D 69/12 , H01M 8/06 R , H01M 8/10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

水素分離材料及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2011-067849 Applicant：住友電気工業株式会社
多孔質複合体およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-100378 Applicant：京セラ株式会社
流体分離フィルタおよびその製造方法と燃料電池システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-194565 Applicant：株式会社豊田中央研究所

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