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J-GLOBAL ID:200903093001828294
緻密質シリカ系水素分離膜および水素製造方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
池田 治幸
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005351087
Publication number (International publication number):2007152230
Application date: Dec. 05, 2005
Publication date: Jun. 21, 2007
Summary:
【課題】 水素ガスの分離性能および透過速度が高く且つ使用環境の制限の少ない水素分離膜を提供する。【解決手段】 水素分離膜10は、多孔質の支持体12の外周面が緻密質の膜14で覆われているが、シリカ系材料は薄い膜厚になると膜厚方向に水素を選択的に透過させ、他のガスを透過させない。しかも、シリカ系材料の水素透過性能は、膜厚が薄くなるほど透過抵抗が小さくなるため向上する。そのため、1〜200(nm)の薄いシリカ系材料から成る膜14を多孔質の支持体12の外周面に備えた水素分離膜10は水素を選択的に且つ高い速度を以て透過させるので、水素ガスの分離性能および透過速度が高い水素分離膜が得られる。また、支持体12および膜14は、何れもセラミックスで構成されることから、水素分離膜10は高温の大気中や水蒸気雰囲気下でも劣化し難く、使用環境の制限の少ない特性を有する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
水素分子が厚み方向に透過可能な多数の連通細孔を備えた多孔質支持体と、
前記多孔質支持体の一面に設けられることにより前記連通細孔を閉塞する緻密質のシリカ系膜と
を、含むことを特徴とする緻密質シリカ系水素分離膜。
IPC (3):
B01D 71/02
, B01D 69/10
, C01B 3/56
FI (3):
B01D71/02 500
, B01D69/10
, C01B3/56 Z
F-Term (16):
4D006GA41
, 4D006LA06
, 4D006MA09
, 4D006MA31
, 4D006MC02X
, 4D006MC03X
, 4D006NA31
, 4D006NA39
, 4D006NA41
, 4D006NA63
, 4D006PA04
, 4D006PB66
, 4G140FA04
, 4G140FB06
, 4G140FC01
, 4G140FE01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (4)
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水素選択性ガス分離膜、水素選択性ガス分離材及びこれらの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-055444
Applicant:財団法人ファインセラミックスセンター
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水素分離膜およびその製造法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-196228
Applicant:エヌオーケー株式会社, 諸岡成治
-
水素分離膜およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-070626
Applicant:中尾真一, 野村幹弘, 菅原孝
-
水素選択シリカ膜
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2004-508937
Applicant:コノコフィリップス・カンパニー, バージニアテックインテレクチュアルプロパティーズインコーポレーテッド
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