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J-GLOBAL ID：201802216241124240   Reference number：18A0182287

Recent Progress in Plasma Technology

プラズマ技術の動向と最前線

Author (4)： SHIRAFUJI TATSURU (大阪市立大学) ,  TAKEUCHI NOZOMI (産業技術総合研究所) ,  ICHIKI RYUTA (大分大学) ,  KUWAHARA TAKUYA (日本工業大学)
Material： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
Volume： 138  Issue： 1  Page： 8-9(J-STAGE)  Publication year： 2018 
JST Material Number： S0808A  ISSN： 0385-4205  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *plasma application ,  technological review ,  *thin film growth ,  *sputtered deposition ,  *plasma ,  *magnetron sputtering ,  *plasma spraying ,  *pulse plasma ,  *low pressure plasma spraying
Semi thesaurus term： *HiPIMS

Author keywords (22)： プラズマ ,  熱プラズマ ,  低温プラズマ ,  核融合プラズマ ,  大気圧プラズマ ,  液中プラズマ ,  液面上プラズマ ,  パルスプラズマ ,  負イオンプラズマ ,  プラズマプロセシング ,  プラズマ推進 ,  plasma ,  thermal plasma ,  low-temperature plasma ,  fusion plasma ,  atmospheric-pressure plasma ,  plasma in liquid ,  plasma on liquid ,  pulse plasma ,  negative-ion plasma ,  plasma processing ,  plasma propulsion

JST classification (1)： Plasma in general  (BJ02010B)

Terms in the title (2)： プラズマ ,  動向