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J-GLOBAL ID：201802257938810912   Reference number：18A1699206

ミストCVD法で作製されたATO薄膜の電気的および光学的特性

Author (9)： UEDA MARIKO (高知工大 院) ,  LIU Li (高知工大 院) ,  SATO SHOTA (高知工大 院) ,  DANG Giang T. (高知工大 総研) ,  KAWAHARAMURA TOSHIYUKI (高知工大 院) ,  KAWAHARAMURA TOSHIYUKI (高知工大 総研) ,  FUJITA SHIZUO (京大) ,  ORITA HIROYUKI (東芝三菱電機産業システム) ,  HIRAMATSU TAKAHIRO (東芝三菱電機産業システム)
Material： 応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts. JSAP Autumn Meeting (CD-ROM))
Volume： 79th  Page： ROMBUNNO.20a-234A-3  Publication year： Sep. 05, 2018 
JST Material Number： Y0055B  ISSN： 2758-4704  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *chemical vapor deposition ,  *tin oxide ,  *Antimony ,  *addition (annex) ,  electrical property ,  *electrical resistivity ,  *transmissivity ,  *mist CVD ,  spectral transmission

JST classification (1)： Electric conduction in semiconductors and insulators in general  (BM03041P)

Terms in the title (5)： ミストCVD法 ,  作製 ,  ATO ,  薄膜 ,  光学的特性