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J-GLOBAL ID：201802271216840203   Reference number：18A1183447

Density evaluation of remotely-supplied hydrogen radicals produced via tungsten filament method for SiCl₄ reduction

SiCl₄還元のためのタングステンフィラメント法により生成した遠隔供給水素ラジカルの密度評価

Author (11)： DAHMANI Fatima Zohra (National Inst. for Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  DAHMANI Fatima Zohra (Univ. Sci. and Technol. of Oran Mohamed Boudiaf, Oran, DZA) ,  OKAMOTO Yuji (National Inst. for Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  OKAMOTO Yuji (Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN) ,  TSUTSUMI Daiki (National Inst. for Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  TSUTSUMI Daiki (Hosei Univ., Tokyo, JPN) ,  ISHIGAKI Takamasa (Hosei Univ., Tokyo, JPN) ,  KOINUMA Hideomi (Univ. Tokyo, Chiba, JPN) ,  HAMZAOUI Saad (Univ. Sci. and Technol. of Oran Mohamed Boudiaf, Oran, DZA) ,  FLAZI Samir (Univ. Sci. and Technol. of Oran Mohamed Boudiaf, Oran, DZA) ,  SUMIYA Masatomo (National Inst. for Materials Sci., Ibaraki, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 57  Issue： 5  Page： 051301.1-051301.4  Publication year： May. 2018 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *silicon compound ,  *silicon chloride ,  *reduction(reaction) ,  *tungsten ,  *filament ,  *radical ,  *hydrogen ,  tungsten oxide ,  phosphate glass ,  quadrupole mass spectrometry ,  *silicon
Semi thesaurus term： silicon ,  tungsten trioxide ,  Silicon tetrachloride ,  *hydrogen radical

JST classification (2)： Semiconductor thin films  (BK14040E) ,  Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (28)：

• O. Matsumoto and T. Katagiri, Thin Solid Films 146, 283 (1987).
• A. Izumi, H. Sato, S. Hashioka, M. Kudo, and H. Matsumura, Microelectron. Eng. 51-52, 495 (2000).
• A. Masuda, Y. Ishibashi, K. Uchida, K. Kamesaki, A. Izumi, and H. Matsumura, Sol. Energy Mater. Sol. Cells 74, 373 (2002).
• D. Lynch, W. Ben, X. Ji, F. Jiang, A. Salce, E. Morey, and Y. Jiao, TMS Annu. Meet., 2011, Vol. 1, p. 685.
• R. Fu, T. L. James, and M. Woodhouse, IEEE J. Photovoltaics 5, 515 (2015).

Terms in the title (7)： SiCl4 ,  還元 ,  タングステン ,  フィラメント ,  水素ラジカル ,  密度 ,  評価