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J-GLOBAL ID：201802278318426426   Reference number：18A0932099

Atomically flat platinum films grown on synthetic mica

合成雲母上に成長させた原子的に平坦な白金膜

Author (2)： TANAKA Hiroyuki (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TANIGUCHI Masateru (Osaka Univ., Osaka, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 57  Issue： 4  Page： 048001.1-048001.2  Publication year： Apr. 2018 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： mica ,  thin film growth ,  *metallic thin film ,  phlogopite ,  *epitaxy ,  inductively coupled plasma ,  sputtering ,  twin ,  single crystal ,  *platinum film ,  plasma
Semi thesaurus term： *epitaxial growth

JST classification (1)： Metallic thin films  (BK14030T)

Reference (17)：

• T. Honke, H. Fujioka, J. Ohta, and M. Oshima, J. Vac. Sci. Technol. A 22, 2487 (2004).
• H. Tanaka and M. Taniguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 55, 120304 (2016).
• M. Yoshimoto, T. Maeda, T. Ohnishi, H. Koinuma, O. Ishiyama, M. Shinohara, M. Kubo, R. Miura, and A. Miyamoto, Appl. Phys. Lett. 67, 2615 (1995).
• H. Tanaka and M. Taniguchi, Jpn. J. Appl. Phys. 56, 058001 (2017).
• A. Koma, K. Sunouchi, and T. Miyajima, Microelectron Eng. 2, 129 (1984).

Terms in the title (5)： 雲母 ,  成長 ,  原子 ,  白 ,  金膜