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J-GLOBAL ID：201803000673432668

振動装置を有するターゲットアセンブリおよび同位体生成システム

Inventor： エリクソン,トーマス ,  ホルムグレン,バート
Applicant, Patent owner： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
Agent (6)： 荒川 聡志 ,  小倉 博 ,  黒川 俊久 ,  田中 拓人 ,  小島 猛 ,  澤木 亮一
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2017567352
Publication number (International publication number)：2018519517
Application date： May. 10, 2016
Publication date： Jul. 19, 2018
Summary：

ターゲットアセンブリは、生成チャンバと、生成チャンバに隣接するビームキャビティとを有するターゲット本体を含む。生成チャンバは、ターゲット液体を保持するように構成される。ビームキャビティは、ターゲット本体の外部へと開口し、生成チャンバに入射する粒子ビームを受け入れるように構成される。さらに、ターゲットアセンブリは、ターゲット本体に固定された振動装置を含む。振動装置は、生成チャンバ内で経験される振動を引き起こすように構成される。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

同位体生成システム(100)のためのターゲットアセンブリ(200、400)であって、 生成チャンバ(218、404)と、前記生成チャンバ(218、404)に隣接するビームキャビティ(406)と、を有するターゲット本体(201、402)であって、前記生成チャンバ(218、404)は、ターゲット液体を保持するように構成され、前記ビームキャビティ(406)は、該ターゲット本体(201、402)の外部へと開いており、前記生成チャンバ(218、404)に入射する粒子ビームを受け入れるように構成されている、ターゲット本体(201、402)と、 前記ターゲット本体(201、402)に固定され、前記生成チャンバ(218、404)内で経験される振動を引き起こすように構成された振動装置(225、422)と を備えるターゲットアセンブリ(200、400)。

IPC (2)：

G21K 5/08 ,  G21G 1/10

FI (4)：

G21K5/08 B ,  G21G1/10 ,  G21K5/08 R ,  G21K5/08 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 特開昭61-246699
  
• X線発生装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-210778   Applicant：株式会社島津製作所
• 放射性同位元素製造用ターゲット
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-324197   Applicant：住友重機械工業株式会社
• アイソトープ生成システム用の自己シールドターゲット
  Gazette classification：公表公報   Application number：特願2013-506159   Applicant：ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
• 回転陽極型X線管の製造方法および製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-312190   Applicant：株式会社東芝
• 放射性核種製造方法及び放射性核種製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2014-151342   Applicant：株式会社日立製作所