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J-GLOBAL ID:201803002615429340
超臨界溶媒熱合成により表面変性金属酸化物ナノ粒子を製造するための連続フロー式プロセス
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
,
Agent (2):
村山 靖彦
, 志賀 正武
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2017533798
Publication number (International publication number):2018508440
Application date: Dec. 23, 2014
Publication date: Mar. 29, 2018
Summary:
本発明は、連続フロー式チャンバー内で流動する反応媒体中での超臨界溶媒熱合成により、表面変性金属酸化物ナノ粒子を製造するための連続フロー式プロセスであって、前記連続フロー式チャンバーが加水分解領域及び超臨界領域を含有し、前記プロセスが、加水分解領域又は超臨界領域に位置する点P1における連続フロー式チャンバー中への金属酸化物前駆体の流れの導入、及び加水分解領域又は超臨界領域に位置する点P2における連続フロー式チャンバー中への表面変性剤の流れの導入を含み、P2が流れの方向に関してP1の下流に位置する、プロセス及びこのプロセスを実行するためのデバイスに関する。
Claim (excerpt):
連続フロー式チャンバー内で流動する反応媒体中での超臨界溶媒熱合成により、表面変性金属酸化物ナノ粒子を製造するための連続フロー式プロセスであって、前記連続フロー式チャンバーが2つの領域:
- 前記反応媒体が超臨界状態になく、且つ条件が、金属酸化物ナノ粒子の核形成及び成長が開始され得るようなものである、加水分解領域;及び
- 前記反応媒体が超臨界状態にあり、且つ金属酸化物ナノ粒子の前記超臨界溶媒熱合成が実行され得る、超臨界領域
を含み、
前記プロセスが、前記加水分解領域又は前記超臨界領域に位置する点P1における前記連続フロー式チャンバー中への金属酸化物前駆体の流れの導入、及び前記加水分解領域又は前記超臨界領域に位置する点P2における前記連続フロー式チャンバー中への表面変性剤の流れの導入を含み、
P2が流れの方向に関してP1の下流に位置する、連続フロー式プロセス。
IPC (8):
C01G 23/053
, C01B 13/32
, C01B 13/14
, C01G 25/02
, B01J 19/00
, B82Y 30/00
, B82Y 40/00
, B01J 3/00
FI (8):
C01G23/053
, C01B13/32
, C01B13/14 A
, C01G25/02
, B01J19/00 N
, B82Y30/00
, B82Y40/00
, B01J3/00 B
F-Term (44):
4G042DA01
, 4G042DA02
, 4G042DB11
, 4G042DB12
, 4G042DB15
, 4G042DB19
, 4G042DB21
, 4G042DB22
, 4G042DB24
, 4G042DB28
, 4G042DB35
, 4G042DD04
, 4G042DE03
, 4G042DE04
, 4G042DE06
, 4G042DE08
, 4G042DE09
, 4G042DE14
, 4G047CA02
, 4G047CB06
, 4G047CB08
, 4G047CD04
, 4G048AA02
, 4G048AB02
, 4G048AB04
, 4G048AD04
, 4G048AE08
, 4G075AA27
, 4G075AA61
, 4G075BA10
, 4G075BB05
, 4G075CA02
, 4G075CA03
, 4G075CA57
, 4G075CA65
, 4G075CA66
, 4G075DA01
, 4G075DA12
, 4G075DA18
, 4G075EA06
, 4G075EB21
, 4G075EC06
, 4G075FB02
, 4G075FC02
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
-
ナノサイズ材料の製造
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2008-543663
Applicant:エスセーエフテクノロジーズアクティーゼルスカブ
-
粉体の合成方法及び電子部品の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-198509
Applicant:TDK株式会社
-
金属酸化物ナノ粒子及びその製造方法、並びに、発光素子組立体及び光学材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-131669
Applicant:ソニー株式会社
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