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J-GLOBAL ID:201803004846313002

排ガス処理装置及び排ガス処理方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 野河 信太郎 ,  甲斐 伸二 ,  金子 裕輔 ,  稲本 潔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2017071904
Publication number (International publication number):2018171584
Application date: Mar. 31, 2017
Publication date: Nov. 08, 2018
Summary:
【課題】本発明は、オゾンガスをNOガス酸化反応に効率よく利用することができ、排ガス処理の脱硝効率を向上させることができる排ガス処理装置を提供する。【解決手段】本発明の排ガス処理装置は、NOxを含む排ガスが流れるように設けられた排ガス流路と、第1噴霧ノズルとを備え、第1噴霧ノズルは、前記排ガス流路中に冷却水を噴霧し第1ミストを形成するように設けられた少なくとも1つの噴霧孔と、第1ミストの150°C以下の局所冷却域にオゾンガスを供給するように設けられたオゾン噴出口とを備え、少なくとも1つの噴霧孔は、前記オゾン噴出口にオゾンガスを供給するオゾンガス流路又は前記オゾン噴出口を囲むように配置されたことを特徴とする。【選択図】図1
Claim (excerpt):
NOxを含む排ガスが流れるように設けられた排ガス流路と、第1噴霧ノズルとを備え、 第1噴霧ノズルは、前記排ガス流路中に冷却水を噴霧し第1ミストを形成するように設けられた少なくとも1つの噴霧孔と、第1ミストの150°C以下の局所冷却域にオゾンガスを供給するように設けられたオゾン噴出口とを備え、 少なくとも1つの噴霧孔は、前記オゾン噴出口にオゾンガスを供給するオゾンガス流路又は前記オゾン噴出口を囲むように配置されたことを特徴とする排ガス処理装置。
IPC (5):
B01D 53/56 ,  B01D 53/78 ,  B01D 53/18 ,  B01D 53/50 ,  B05B 7/06
FI (5):
B01D53/56 ,  B01D53/78 ,  B01D53/18 150 ,  B01D53/50 ,  B05B7/06
F-Term (41):
4D002AA02 ,  4D002AA12 ,  4D002AC10 ,  4D002BA05 ,  4D002BA06 ,  4D002BA13 ,  4D002BA14 ,  4D002DA02 ,  4D002DA12 ,  4D002DA51 ,  4D002EA03 ,  4D002EA05 ,  4D002GA02 ,  4D002GA03 ,  4D002GB01 ,  4D002GB02 ,  4D002GB03 ,  4D002GB05 ,  4D002HA01 ,  4D020AA05 ,  4D020AA06 ,  4D020BA01 ,  4D020BA19 ,  4D020BA23 ,  4D020BB03 ,  4D020CB27 ,  4D020CC02 ,  4D020CC10 ,  4D020DA01 ,  4D020DA02 ,  4D020DB01 ,  4D020DB02 ,  4D020DB03 ,  4D020DB05 ,  4F033QA04 ,  4F033QB02X ,  4F033QB03Y ,  4F033QB12X ,  4F033QB15Y ,  4F033QD02 ,  4F033QD19
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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