Pat
J-GLOBAL ID:201803006204088229
プラズマ輸送方法およびプラズマ輸送装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
中尾 俊輔
, 伊藤 高英
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2016162608
Publication number (International publication number):2018032488
Application date: Aug. 23, 2016
Publication date: Mar. 01, 2018
Summary:
【課題】本発明においては、プラズマ生成部において生成されたプラズマを極めて高速に対象物まで輸送可能なプラズマ輸送方法およびプラズマ輸送装置を提供することを目的とする。【解決手段】プラズマ生成手段2において生成される大気圧プラズマPを対象物Wの表面へ輸送するプラズマ輸送方法およびプラズマ輸送装置1であって、前記プラズマ生成手段2に対して、加圧ガスGを瞬間的に導入して前記加圧ガスGの一部をプラズマ化させるとともに前記加圧ガスGの圧力によって前記対象物Wの表面へ高速に前記大気圧プラズマPを輸送することを特徴とするプラズマ輸送方法およびプラズマ輸送装置1。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
プラズマ生成手段において生成される大気圧プラズマを対象物の表面へ輸送するプラズマ輸送方法であって、
前記プラズマ生成手段から輸送される前記大気圧プラズマの流量を瞬間的に増大させて前記対象物の表面へ高速に前記大気圧プラズマを輸送することを特徴とするプラズマ輸送方法。
IPC (1):
FI (1):
F-Term (29):
2G084AA25
, 2G084BB11
, 2G084BB12
, 2G084BB21
, 2G084BB36
, 2G084BB37
, 2G084CC04
, 2G084CC19
, 2G084CC20
, 2G084CC23
, 2G084CC25
, 2G084CC34
, 2G084DD01
, 2G084DD14
, 2G084DD22
, 2G084FF02
, 2G084FF13
, 2G084FF14
, 2G084FF16
, 2G084FF18
, 2G084FF39
, 2G084FF40
, 2G084GG07
, 2G084GG08
, 2G084GG18
, 2G084GG22
, 2G084HH09
, 2G084HH35
, 2G084HH36
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
-
圧力波を利用して基板から材料を除去するためのプラズマ源および方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2011-549311
Applicant:エーピーソルーションズ,インコーポレイテッド
-
特開平2-092468
-
特開平2-092468
-
表面処理方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-153709
Applicant:セイコーエプソン株式会社
-
プラズマを用いたC60合成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-017929
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
-
LFプラズマジェット生成方法とLFプラズマジェット生成装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2009-080683
Applicant:学校法人日本大学
-
汚染物除去装置及び方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2015-512839
Applicant:レイヴエヌ.ピー.インコーポレイテッド
Show all
Return to Previous Page