特徴量を用いた3次元計測方法およびその装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：あいわ特許業務法人
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2017092144
Patent number：6308637
Application date： May. 08, 2017
Summary：

【課題】特徴量を用いた3次元計測方法およびその装置を提供する。【解決手段】複数の投影部5A、5Bから投影されたパターンまたは前記パターンの変化の少なくとも一方により得られた複数個の特徴量と空間座標との関係を予め求め、特徴量と空間座標の関係を用いて、計測対象物表面6に複数の投影部から投影されたパターンまたはパターンの変化から得られた特徴量から対象物表面の空間座標を求める。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

【請求項1】 3つ以上の特徴量の複数の組を含み、前記各3つ以上の特徴量の組が計測領域内もしくは前記計測領域内の部分領域内で各空間座標と1対1の対応関係となるように配置された複数の位置から、計測対象物表面に、パターンまたは前記パターンの変化を投影するステップと、前記計測対象物表面に投影された前記パターンまたは前記パターンの変化を撮影するステップと、基準物体を用いて予め求められた前記各3つ以上の特徴量の組と前記空間座標との関係を用いて、前記撮影して得られた画像を基に得られた3つ以上の特徴量の組から、前記空間座標を求めるステップと、を含む前記計測対象物表面の空間座標を求める計測方法。

IPC (1)：

G01B 11/25 ( 200 6.01)

FI (1)：

G01B 11/25 H

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

三次元形状計測装置及び三次元形状計測方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-025380 Applicant：NECエンジニアリング株式会社
三次元形状計測方法及び装置並びに記録媒体
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-082414 Applicant：日本電気株式会社
3次元形状計測装置およびキャリブレーション方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2012-021835 Applicant：オムロン株式会社

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Cited by examiner (5)

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