Art

J-GLOBAL ID：201902219515403942   Reference number：19A1796901

Structural analysis of hydrogenated amorphous carbon nitride films formed from the decomposition of CH₃CN in the microwave discharge flow of Ar

Arのマイクロ波放電流におけるCH₃CNの分解から形成された水素化アモルファスカーボンナイトライド膜の構造解析

Author (4)： ITO Haruhiko (Nagaoka Univ. Technol., Nagaoka, JPN) ,  SEKIZAKI Chitose (Nagaoka Univ. Technol., Nagaoka, JPN) ,  FUKUHARA Sho (Nagaoka Univ. Technol., Nagaoka, JPN) ,  SAITOH Hidetoshi (Nagaoka Univ. Technol., Nagaoka, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 58  Issue： SE  Page： SEED02.1-SEED02.6  Publication year： Jun. 2019 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *microwave discharge ,  *argon ,  aliphatic nitrile ,  *hydride ,  *carbon compound ,  *nitride ,  *membrane and film ,  *structure analysis ,  plasma CVD ,  X-ray photoelectron spectroscopy ,  infrared spectroscopy ,  Raman spectroscopy
Semi thesaurus term： *CNx ,  *amorphous film ,  microwave plasma CVD

JST classification (1)： Thin films of organic compounds  (BK14070L)

Substance index (1)： Acetonitrile

Reference (33)：

• J. Robertson, Mater. Sci. Eng. R37, 129 (2002).
• A. Saikubo, N. Yamada, K. Kanda, S. Matsui, T. Suzuki, K. Niihara, and H. Saitoh, Diam. Relat. Mater. 17, 1743 (2008).
• Y. Ohgoe, K. K. Hirakuri, H. Saitoh, T. Nakahigashi, N. Ohtake, A. Hirata, K. Kanda, M. Hiratsuka, and Y. Fukui, Surf. Coat. Technol. 207, 350 (2012).
• J. R. Fuhr and W. L. Wiese, in CRC Handbook of Chemistry and Physics, ed. D. R. Lide (CRC Press, Boca Raton, FL, 1998) (Chap. 9).
• W. Kulisch, Deposition of Diamond-like Superhard Materials (Springer, Berlin, 1999), (Chap. 3).

Terms in the title (7)： Ar ,  マイクロ波放電 ,  分解 ,  水素化 ,  アモルファス ,  カーボンナイトライド ,  構造解析