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J-GLOBAL ID：201902237445250980   Reference number：19A0155914

人工光合成の実用化研究最前線 高耐性セラミックスSiCの新たな応用可能性:人工光合成

Author (1)： KATO MASASHI (Nagoya Inst. Technol.)
Material： セラミックス  (Bulletin of the Ceramic Society of Japan)
Volume： 54  Issue： 1  Page： 36-39  Publication year： Jan. 01, 2019 
JST Material Number： S0291A  ISSN： 0009-031X  CODEN： SERAA7  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： Photosynthesis ,  *photocatalytic reaction ,  *photocatalyst ,  stability ,  *silicon carbide ,  photocurrent ,  polytype ,  P-type semiconductor ,  compound semiconductor ,  PN junction ,  promoter (catalysis) ,  Platinum ,  photoelectric cathode ,  energy conversion efficiency ,  functional ceramics ,  resistance (endure) ,  artificial photosynthesis ,  3C-silicon carbide
Semi thesaurus term： 3C-SiC

JST classification (1)： Photochemistry in general  (CB08010U)

Reference (14)：

• M. Kato, M. Ichimura and E. Arai, Jpn. J. Appl. Phys., 40, L1145-L1147 (2001).
• T. Yasuda, M. Kato, M. Ichimura and T. Hatayama, Appl. Phys. Lett., 101, 053902 (2012).
• M. Kato, T. Yasuda, K. Miyake, M. Ichimura and T. Hatayama, Int. J. Hydrogen Energy, 39, 4845-4849 (2014).
• M. Kato, K. Miyake, T. Yasuda, M. Ichimura, T. Hatayama and T. Ohshima, Jpn. J. Appl. Phys., 55, 01AC02 (2016).
• N. Ichikawa, M. Kato and M. Ichimura, Appl. Phys. Express, 8, 091301 (2015).

Terms in the title (8)： 人工光合成 ,  実用化 ,  研究 ,  耐性 ,  セラミックス ,  SiC ,  応用 ,  可能性