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J-GLOBAL ID：201902281969472442   Reference number：19A0185967

Pulsed-DC Discharge for Plasma CVD of Carbon Thin Films

炭素薄膜のプラズマCVDのためのパルスDC放電【JST・京大機械翻訳】

Author (3)： Mamun Md Abdullah Al (Graduate School of Engineering, Kochi University of Technology, Kami, Kochi, Japan) ,  Furuta Hiroshi (Graduate School of Engineering, Kochi University of Technology, Kami, Kochi, Japan) ,  Hatta Akimitsu (Graduate School of Engineering, Kochi University of Technology, Kami, Kochi, Japan)
Material： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Trans Plasma Sci)
Volume： 47  Issue： 1  Page： 22-31  Publication year： 2019 
JST Material Number： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： A pulsed-dc discharge method f...

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Thesaurus term： *plasma CVD ,  conductive property ,  evaporated film ,  DLC film ,  Raman spectroscopy ,  *pulse ,  *electric discharge ,  *plasma ,  voltage ,  glow discharge ,  characterization ,  glass substrate ,  discharge current ,  loading frequency
Semi thesaurus term： デューティサイクル ,  繰返し速度 , 【Automatic Indexing@JST】

JST classification (2)： Applications of plasma  (BJ02110K) ,  Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A)

Terms in the title (5)： 炭素薄膜 ,  プラズマCVD ,  パルス ,  DC ,  放電