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J-GLOBAL ID:201903003877010149

希土類水素化物の製造方法、水素センサー及び薄膜トランジスター

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (8): 高島 一 ,  土井 京子 ,  鎌田 光宜 ,  田村 弥栄子 ,  小池 順造 ,  當麻 博文 ,  赤井 厚子 ,  戸崎 富哉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2017220273
Publication number (International publication number):2019089267
Application date: Nov. 15, 2017
Publication date: Jun. 13, 2019
Summary:
【課題】低温(特に、室温)かつ低濃度水素雰囲気下においても希土類水素化物半導体を生成し得る希土類水素化物の製造方法を提供する。【解決手段】希土類元素膜上に白金膜が形成された積層膜を水素を含む雰囲気下で熱処理し、膜中の希土類元素が水素化されて希土類水素化物を生成した膜に転化する、希土類水素化物の製造方法。【選択図】なし
Claim (excerpt):
希土類元素膜上に白金膜が形成された積層膜を水素を含む雰囲気下で熱処理することを含む、希土類水素化物の製造方法。
IPC (5):
B32B 9/00 ,  H01L 21/336 ,  H01L 29/786 ,  H01L 21/477 ,  C01B 6/00
FI (4):
B32B9/00 A ,  H01L29/78 618A ,  H01L21/477 ,  C01B6/00 Z
F-Term (73):
4F100AA00A ,  4F100AB00A ,  4F100AB24B ,  4F100AC10 ,  4F100AR00C ,  4F100AR00D ,  4F100AR00E ,  4F100BA02 ,  4F100BA05 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100EJ42A ,  4F100EJ58A ,  4F100GB61 ,  4F100JG01A ,  4F100JG01C ,  4F100JG01E ,  4F100JG04D ,  4F100YY00A ,  5F110AA17 ,  5F110BB09 ,  5F110CC03 ,  5F110CC07 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD03 ,  5F110DD04 ,  5F110DD05 ,  5F110DD13 ,  5F110EE02 ,  5F110EE03 ,  5F110EE04 ,  5F110EE42 ,  5F110EE43 ,  5F110EE44 ,  5F110EE45 ,  5F110FF01 ,  5F110FF02 ,  5F110FF03 ,  5F110FF04 ,  5F110FF05 ,  5F110FF06 ,  5F110FF27 ,  5F110FF28 ,  5F110FF29 ,  5F110FF30 ,  5F110FF33 ,  5F110GG01 ,  5F110GG06 ,  5F110GG24 ,  5F110GG42 ,  5F110GG43 ,  5F110HK02 ,  5F110HK03 ,  5F110HK04 ,  5F110HK32 ,  5F110HK33 ,  5F110HK34 ,  5F110HK35 ,  5F110HK38 ,  5F110HK42 ,  5F110NN02 ,  5F110NN05 ,  5F110NN22 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN34 ,  5F110NN35 ,  5F110NN40 ,  5F110QQ11 ,  5F110QQ14
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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