Pat
J-GLOBAL ID:201903020697323949

光周波数計測装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 山川 茂樹 ,  小池 勇三 ,  山川 政樹
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2018190682
Publication number (International publication number):2019152645
Application date: Oct. 09, 2018
Publication date: Sep. 12, 2019
Summary:
【課題】高精度な参照光源を必要とすることなく、被計測レーザーの光周波数を高確度で計測する。【解決手段】光周波数特定部70が、設定信号の設定周波数f0を第1および第2のシフト周波数f0a,f0bに変更した際における、基準信号の繰り返し周波数frepa,frepbを計測し、これらの周波数差frepa-frepbに基づいて、モード次数Nさらには被計測レーザー光の光周波数fxを特定する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
被計測レーザー光源から出力された被計測レーザー光を、第1の信号発生器から出力された繰り返し周波数frepを示す基準信号に基づいて位相変調することにより、前記繰り返し周波数frepで光周波数コムを形成する第1の光パルス列を発生する光パルス列発生部と、 前記第1の光パルス列のパルス幅を分散補償手段で圧縮して短パルス化した第3の光パルス列を出力するパルス幅圧縮部と、 前記第3の光パルス列の光スペクトル帯域を高非線形媒質により拡大することにより、SC光からなる第4の光パルス列を出力する帯域拡大部と、 前記第4の光パルス列を自己参照型干渉計に入射し、得られた干渉信号からキャリアエンベロープのオフセット周波数を検出するオフセット周波数検出部と、 第2の信号発生器から出力された設定信号と前記オフセット周波数を示すオフセット信号とを位相比較し、得られた比較結果に基づく帰還制御により前記繰り返し周波数frepの安定化を行う帰還制御部と、 前記第1の信号発生器から出力された前記基準信号の繰り返し周波数frepを計測し、得られた計測結果に基づいて前記光周波数コムのモード次数Nを特定するとともに、前記被計測レーザー光の光周波数fxを特定する光周波数特定部とを備え、 前記光周波数特定部は、前記設定信号の設定周波数f0を第1および第2のシフト周波数f0a,f0bに変更した際における、前記基準信号の繰り返し周波数frepa,frepbを計測し、これらの周波数差frepa-frepbに基づいて、前記モード次数Nさらには前記光周波数fxを特定する ことを特徴とする光周波数計測装置。
IPC (3):
G01J 9/00 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/13
FI (3):
G01J9/00 ,  H01S3/00 G ,  H01S3/13
F-Term (3):
5F172NN14 ,  5F172NN27 ,  5F172NP05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page