マイクロ波処理装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：岩橋文雄 , 内藤浩樹 , 永野大介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008314043
Publication number (International publication number)：2010140696
Application date： Dec. 10, 2008
Publication date： Jun. 24, 2010
Summary：

【課題】被加熱物にマイクロ波を照射する際、マイクロ波が強く照射される指向性を制御して、高い加熱効率と加熱の仕上がり具合の向上を実現する。【解決手段】発振部1a、1c、電力分配部2a、2c、増幅部4a〜4d、被加熱物9を収納する加熱室8、加熱室8の底壁面に配置されマイクロ波を放射する給電部5a〜5d、マイクロ波伝播路に挿入した位相可変部3a〜3dを備え、給電部5a〜5dより放射されるマイクロ波の位相差および発振周波数を最適制御することにより、様々な被加熱物9に対して反射電力を最小に抑制し、指向性を被加熱物9に向け操作した高効率な加熱を実現させることができる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

被加熱物を収容する加熱室と、発振部と、前記発振部の出力を複数に分配して出力する電力分配部と、前記電力分配部の少なくともひとつの出力位相を可変する位相可変部と、前記電力分配部および/または前記位相可変部の出力をそれぞれ電力増幅する複数の電力増幅部と、前記電力増幅部の出力を前記加熱室に供給する複数の給電部と、前記発振部の発振周波数と前記位相可変部の位相量と前記電力増幅部を制御する制御部とを有し、前記加熱室を構成する1つの壁面に前記給電部を3つ以上設け、放射するマイクロ波の励振電界または、励振磁界の方向を一致させた前記給電部2つの組合せを複数設け、前記給電部組合せの2つの前記給電部間を結ぶ複数の線が、一直線上に並ばないよう前記給電部を配置する構成としたマイクロ波処理装置。

IPC (4)：

H05B 6/72 , H05B 6/70 , H05B 6/64 , H05B 6/74

FI (4)：

H05B6/72 D , H05B6/70 F , H05B6/64 G , H05B6/74 E

F-Term (10)：

3K090AA01 , 3K090AA02 , 3K090AB01 , 3K090AB14 , 3K090BA03 , 3K090BA08 , 3K090BB01 , 3K090CA16 , 3K090DA17 , 3K090DA19

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

特開昭56-096486号公報
特開昭56-132793号公報
特開昭55-010777号公報

Cited by examiner (7)

マイクロ波処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-331530 Applicant：松下電器産業株式会社
高周波加熱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-335337 Applicant：松下電器産業株式会社
マイクロ波加熱装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2007-128911 Applicant：パナソニック株式会社

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