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J-GLOBAL ID：202002227400665802   Reference number：20A0844756

Real Time Nanoscale Observation in Cleaning Phenomena by Evanescent Field-2nd: Non-contact Removal of Abrasive Nano-particles during Enforcing Mega Sonic-

エバネッセント光を応用した超微粒子洗浄現象の実時間観察に関する研究-第2報:非接触洗浄時における超音波と研磨ナノ粒子の除去挙動-

Author (7)： TERAYAMA YUTAKA (九州工大 大学院情報工学府) ,  KHAJORNRUNGRUANG Panart (九州工大 大学院情報工学研究院) ,  SUZUKI KEISUKE (九州工大 大学院情報工学研究院) ,  PERMPATDECHAKUL Thitipat (九州工大 大学院情報工学府) ,  HAMADA SATOMI (荏原製作所) ,  WADA YUTAKA (荏原製作所) ,  HIYAMA HIROKUNI (荏原製作所)
Material： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
Volume： 2020  Issue： 春季(CD-ROM)  Page： ROMBUNNO.H51  Publication year： Mar. 01, 2020 
JST Material Number： Y0914A  Document type： Proceedings
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： semiconductor process ,  chemical mechanical polishing ,  *ultrafine particle ,  *cleaning(washing) ,  interface(surface) ,  *evanescent wave ,  time ,  visualization
Semi thesaurus term： chemical mechanical polishing ,  *silicon wafer cleaning ,  actual time ,  semiconductor process

JST classification (1)： Other surface treatment  (WC08070F)

Reference (7)：

• Y. Terayama, K. Kusatsu, R. Morita, P. Khajornrungruang, S. Hamada, Y. Wada, H. Hiyama: Real time Nanoscale Observation in Cleaning Phenomenon by Evanescent field, -1^st report: Identification of Nano-Particles during PVA brush scrubbing-, 2019年度精密工学会春季大会学術講演会論文集, pp.138-139 (2019)
• P. A. Temple: Total internal reflection microscopy. a surface inspection technique. Applied Optics. 20, pp.2656-2664 (1981).
• S. Takahashi, R. Nakajima, T. Miyoshi, Y. Takaya, and K. Takamasu: Development of an Evanescent Light Measurement System for Si Wafer Microdefect Detection. Key Engineering Materials, 295-296, pp.15-20 (2005).
• K. Kimura, K. Suzuki, and P. Khajornrungruang: Study on fine particle behavior in slurry flow between wafer and polishing pad as a material removal process in CMP. Proc. of ICPT, pp. 345-350 (2012).
• P. Khajornrungruang, P. Dean, S. V. Babu: Proc. of 29th ASPE Annu. Meet., pp.73 (2014)

Terms in the title (12)： 応用 ,  超微粒子 ,  洗浄 ,  現象 ,  実時間 ,  観察 ,  研究 ,  非接触 ,  超音波 ,  研磨 ,  ナノ粒子 ,  挙動