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J-GLOBAL ID：202002238526931015   Reference number：20A1762513

Evaluation of Thick-Film Photoresist for Grayscale Lithography Utilizing Direct Laser Writing

レーザ直接描画を用いたグレイスケールリソグラフィにおける厚膜レジストの評価

Author (4)： SHOJI MASAAKI (東北大学マイクロシステム融合研究開発センター) ,  JOTAKI HIDEO (ハイデルベルグ・インストルメンツ(株)) ,  MORIYAMA MASAAKI (東北大学マイクロシステム融合研究開発センター) ,  TOTSU KENTARO (東北大学マイクロシステム融合研究開発センター)
Material： 電気学会論文誌 E  (IEEJ Transactions on Sensors and Micromachines)
Volume： 140  Issue： 5  Page： 113-118(J-STAGE)  Publication year： 2020 
JST Material Number： L3098A  ISSN： 1341-8939  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *laser lithography ,  *gray scale ,  *thick film ,  *photoresist ,  micro structure ,  array ,  substrate (plate) ,  electric apparatus and parts ,  optical element ,  circuit pattern generation ,  microlens array ,  glass substrate ,  diffraction optical element ,  *measuring instrument
Semi thesaurus term： *direct laser lithography ,  three-dimensional structure ,  positive photoresist

Author keywords (12)： フォトリソグラフィ ,  グレイスケール ,  レーザ描画 ,  厚膜 ,  フォトレジスト ,  3次元構造体 ,  photolithography ,  grayscale ,  laser writer ,  thick-film ,  photoresist ,  three-dimensional structure

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Optical devices in general  (BD06010L)

Reference (11)：

• (1) A.-L. Coutrot, E. Dufour-Gergam, J.-M. Quemper, E. Martincic, J.-P. Gilles, J.-P. Grandchamp, M. Matlosz, A. Sanchez, L. Darasse, and J.-C. Ginefri : “Copper micromoulding process for NMR microinductors realization”, Sens. Actuators A, Vol. 99, pp. 49-54 (2002)
• (2) Y. Pang, Y. Shu, M. Shavezipur, X. Wang, M. A. Mohammad, Y. Yang, H. Zhao, N. Deng, R. Maboudian, and T.-L. Ren : “3D stretchable arch ribbon array fabricated via grayscale lithography”, Sci. Rep., Vol. 6, 28552 (2016)
• (3) X. Ma, Y. Kato, F. Kempen, Y. Hirai, T. Tsuchiya, F. Keulen, and O. Tabata : “Experimental study of numerical optimization for 3-D microstructuring using DMD-based grayscale lithography”, J. Microelectomech. Syst., Vol. 24, No. 6, pp. 1856-1867 (2015)
• (4) 駒野博司:「レジスト材料」, 表面技術, Vol. 46, No. 9, pp. 778-783 (1995)
• (5) T. Lin, C. Chen, J. Yang, and Y. Liao : “A dual-directional light-control film with a high-sag and high-asymmetrical-shape microlens array fabricated by a UV imprinting process”, J. Micromech. Microeng., Vol. 18, p. 095029 (2008)

Terms in the title (4)： レーザ直接描画 ,  厚膜 ,  レジスト ,  評価