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J-GLOBAL ID：202002242471301189   Reference number：20A0446839

電子線レジストの感度曲線を用いたレジスト解像度パタンのモンテカルロシミュレーション

Author (5)： MIYAZAKI SHO (香川高専) ,  YAMAMOTO MASASHI (香川高専) ,  KAWATA JUN (香川高専) ,  HORIBE HIDEO (大阪市大) ,  NAGAOKA SHIRO (香川高専)
Material： 計測自動制御学会システムインテグレーション部門講演会(CD-ROM)  (SICE SI (CD-ROM))
Volume： 20th  Page： ROMBUNNO.3B1-06  Publication year： Dec. 12, 2019 
JST Material Number： F1751A  Document type： Proceedings
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *electron beam resist ,  sensitivity (ratio) ,  Monte Carlo Method ,  Computer Simulation ,  *electron beam lithography ,  *circuit pattern generation ,  fine patterning ,  wave function ,  resolving power ,  morphology (form) ,  high sensitivity ,  electron orbital ,  computer application ,  utilization
Semi thesaurus term： 感度曲線 ,  cross-sectional shape

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Terms in the title (7)： 電子線レジスト ,  感度 ,  曲線 ,  レジスト ,  解像度 ,  パタン ,  モンテカルロシミュレーション