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J-GLOBAL ID：202002275043843351   Reference number：20A0176121

Secondary Patternable UV-Imprinted Reworkable Resin by Additional Photoirradiation

光照射追加によって二次パターン化可能なUV-インプリント再加工可能樹脂

Author (2)： Okamura Haruyuki (Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Osaka Prefecture University) ,  Tachi Hideki (Osaka Research Institute of Industrial Science and Technology)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology (Web)
Volume： 32  Issue： 2  Page： 237-242(J-STAGE)  Publication year： 2019 
JST Material Number： U2132A  ISSN： 1349-6336  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： polymer ,  reprocessing ,  pattern formation ,  exposure (photography) ,  compression forming ,  ultraviolet irradiation ,  photomask ,  *lithography ,  photopolymerizable resin ,  carboxylate (ester) ,  unsaturated carboxylic acid ,  monomer ,  photoacid generator ,  scanning probe microscope ,  FTIR spectroscopy ,  GC-MS analysis ,  percent conversion ,  resin ,  ultraviolet curing resin ,  Methacrylates ,  mask
Semi thesaurus term： 再加工可能樹脂 ,  patterning ,  パターン露光 ,  UVナノインプリント樹脂 ,  *UV nanoimprint lithography ,  Methacrylates

Author keywords (4)： Reworkable resin ,  Secondary pattern ,  UV imprint ,  Pattern exposure

JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (21)：

• 1. B. D. Gates, Q. Xu, M. Stewart, D. Ryan, C. G. Willson, and G. M. Whitesides, Chem. Rev., 105 (2005) 1171.
• 2. H. Schift, J. Vac. Sci. Technol. B., 26 (2008) 458.
• 3. S. Matsui H. Hiroshima, Y. Hirai, and M. Nakagawa, J. Photopolym. Sci. Technol., 27 (2014) 61.
• 4. K. Mohamed, M. M. Alkaisi, and R. J. Blaikie, J. Vac. Sci. Technol. B, 26 (2008) 2500.
• 5. N. Kehagias, A. Francone, M. Guttmann, F. Winkler, A. Fernández, and C. M. S. Torres, J. Vac. Sci. Technol. B, 36 (2018) 06JF01.

Terms in the title (3)： 光照射 ,  パターン化 ,  再加工