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J-GLOBAL ID:202003002120892173

合成ガスの製造装置および合成ガスの製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2): 齋藤 拓也 ,  来間 清志
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2018226935
Publication number (International publication number):2020089815
Application date: Dec. 03, 2018
Publication date: Jun. 11, 2020
Summary:
【課題】触媒活性の低下を抑制し、メタンと二酸化炭素とから一酸化炭素と水素とを含む合成ガスを効率良く製造できる製造装置及びその製造方法の提供。【解決手段】本発明の製造装置Xは、メタンと二酸化炭素とを含む原料ガスを供給する第1供給部100と、酸素を供給する酸素供給部114と、第1供給部100から原料ガスが供給されると共に酸素供給部114から酸素が供給され、触媒構造体を加熱しながら、原料ガスに含まれるメタンと二酸化炭素とから一酸化炭素と水素とを含む合成ガスを生成する合成ガス生成部103とを備え、触媒構造体1は、ゼオライト型化合物で構成される多孔質構造の担体10と、担体10に内在する少なくとも1つの触媒物質20とを備え、担体10が、互いに連通する通路11を有し、触媒物質20が金属微粒子であり、担体10の少なくとも通路11に存在している。【選択図】図1
Claim (excerpt):
一酸化炭素と水素とを含む合成ガスを製造する合成ガスの製造装置であって、 メタンと二酸化炭素とを含む原料ガスを供給する第1供給部と、 酸素を供給する酸素供給部と、 前記第1供給部から前記原料ガスが供給されると共に前記酸素供給部から酸素が供給され、触媒構造体を加熱しながら、前記原料ガスに含まれるメタンと二酸化炭素とから一酸化炭素と水素とを含む合成ガスを生成する合成ガス生成部と、 を備え、 前記触媒構造体は、ゼオライト型化合物で構成される多孔質構造の担体と、前記担体に内在する少なくとも1つの触媒物質と、を備え、 前記担体が、互いに連通する通路を有し、 前記触媒物質が、金属微粒子であり、前記担体の少なくとも前記通路に存在している 合成ガスの製造装置。
IPC (5):
B01J 29/072 ,  B01J 35/04 ,  C01B 3/38 ,  C01B 3/36 ,  C01B 32/40
FI (6):
B01J29/072 M ,  B01J35/04 301A ,  B01J35/04 301C ,  C01B3/38 ,  C01B3/36 ,  C01B32/40
F-Term (39):
4G140EA03 ,  4G140EA05 ,  4G140EA07 ,  4G140EB12 ,  4G140EB37 ,  4G140EB45 ,  4G140EB46 ,  4G140EC02 ,  4G140EC03 ,  4G140EC08 ,  4G146JA01 ,  4G146JB02 ,  4G146JB04 ,  4G146JC01 ,  4G146JC05 ,  4G146JC18 ,  4G146JC22 ,  4G146JC30 ,  4G146JC35 ,  4G146JC37 ,  4G146JD02 ,  4G146JD10 ,  4G169AA03 ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BB02A ,  4G169BC66A ,  4G169BC67A ,  4G169BC68A ,  4G169BC68B ,  4G169BC70A ,  4G169BC71A ,  4G169BC72A ,  4G169BC74A ,  4G169BC75A ,  4G169CC21 ,  4G169DA05 ,  4G169EA25 ,  4G169EB07
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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