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J-GLOBAL ID：202003008537919978
グラフェン基板の製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
特許業務法人グランダム特許事務所
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2015231673
Publication number (International publication number)：2017095327
Patent number：6708397
Application date： Nov. 27, 2015
Publication date： Jun. 01, 2017
Claim (excerpt)：
【請求項1】 基板の表面側に、C(炭素)及びグラフェンの形成に利用する触媒金属である第1金属を含む第1層を積層する第1工程と、
前記第1工程後に前記第1層内の前記C(炭素)を表面側に析出させない第2層を前記第1層の表面側に積層する第2工程と、
前記第2工程後に熱処理して前記第1層内の前記C(炭素)を前記第1金属に溶解させる第3工程と、
前記第3工程後に冷却して前記基板と前記第1層との間にグラフェンを形成させる第4工程と、
を備え、
前記第1層は、前記C(炭素)と、前記第1金属とを積層し、
前記第2層は、前記第3工程において、前記C(炭素)と結合して前記第1層との界面にカーバイド層を形成する第2金属を含むことを特徴とするグラフェン基板の製造方法。
IPC (4)：
C01B 32/184 ( 201 7.01)
, C23C 14/06 ( 200 6.01)
, C23C 14/58 ( 200 6.01)
, B32B 9/00 ( 200 6.01)
C01B 32/184
, C23C 14/06 F
, C23C 14/58 A
, B32B 9/00 A
Cited by applicant (3)
Cited by examiner (3)
Article cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (1)
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