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J-GLOBAL ID：202102221008749361   Reference number：21A0439523

Preparation of Multielements Mixture Thin Film by One-Step Process Sputtering Deposition Using Mixture Powder Target

混合粉末ターゲットを用いた一段階プロセススパッタリング堆積による多元素混合物薄膜の作製【JST・京大機械翻訳】

Author (5)： Kawasaki Hiroharu (Electrical Engineering Department, Sasebo National College of Technology, Sasebo, Japan) ,  Ohshima Tamiko (Electrical Engineering Department, Sasebo National College of Technology, Sasebo, Japan) ,  Yagyu Yoshihito (National Institute of Technology, Sasebo College, Sasebo, Japan) ,  Ihara Takeshi (Department of Electrical and Electronic Engineering, Sasebo National College of Technology, Sasebo, Japan) ,  Suda Yoshiaki (National Institute of Technology, Ishikawa College, Ishikawa, Japan)
Material： IEEE Transactions on Plasma Science  (IEEE Trans Plasma Sci)
Volume： 49  Issue： 1  Page： 48-52  Publication year： 2021 
JST Material Number： D0036B  ISSN： 0093-3813  CODEN： ITPSBD  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Abstract/Point： Thin films consisting of a mix...

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Thesaurus term： liquid crystal ,  *thin film ,  *powder ,  zinc ,  indium ,  gallium ,  oxygen ,  zinc oxide ,  rate of sedimentation ,  indium oxide ,  gallium oxide ,  thin film growth ,  *sputtered deposition ,  X-ray photoelectron spectroscopy ,  EL display ,  transparent conducting thin films

JST classification (2)： Applications of plasma  (BJ02110K) ,  Plasma production and heating  (BJ02060E)

Terms in the title (9)： 混合粉末 ,  ターゲット ,  段階 ,  プロセス ,  スパッタリング堆積 ,  元素 ,  混合物 ,  薄膜 ,  作製