外観検査システム

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人前田特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2020082753
Publication number (International publication number)：2021177154
Application date： May. 08, 2020
Publication date： Nov. 11, 2021
Summary：

【課題】外観検査において過判定品の発生に起因する生産性の低下を抑制する。【解決手段】外観検査システム(100)は、一次検査部(10)と、二次検査部(20)とを備える。一次検査部(10)は、対象物を撮像した画像に基づき、機械学習を用いずに不良判定を行う。二次検査部(20)は、一次検査部(10)で不良と判定された対象物の画像に基づき、第1の機械学習モデル(21)を用いて、真の不良品と過判定品とを分別する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

対象物を撮像した画像に基づき、機械学習を用いずに不良判定を行う一次検査部(10)と、前記一次検査部(10)で不良と判定された対象物の画像に基づき、第1の機械学習モデル(21)を用いて、真の不良品と過判定品とを分別する二次検査部(20)とを備えることを特徴とする外観検査システム。

IPC (2)：

G01N 21/956 , G06T 7/00

FI (2)：

G01N21/956 B , G06T7/00 350B

F-Term (19)：

2G051AA62 , 2G051AB14 , 2G051AC02 , 2G051AC21 , 2G051CA04 , 2G051CA11 , 2G051CB01 , 2G051EA08 , 2G051EA17 , 2G051EB01 , 5L096AA02 , 5L096BA03 , 5L096FA06 , 5L096GA08 , 5L096HA08 , 5L096HA11 , 5L096JA11 , 5L096KA04 , 5L096KA15

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特許第6653929号
画像パターン検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-302888 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
欠陥分類方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-089686 Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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